减反射薄膜的制备及其性能  

作　　者：张雪娜[1] 徐雪青[2] 沈辉[2] 郑岳华[1] 

机构地区：[1]华南理工大学材料学院，广州510641 [2]中国科学院广州能源所，广州510070

出　　处：《Journal of Semiconductors》2003年第B05期85-90,共6页半导体学报（英文版）

摘　　要：使用射频溅射和溶胶-凝胶(Sol—Gel)两种方法在玻璃表面制备SiO2减反射薄膜，比较两种方法制备的薄膜减反效果。分析了Sol—Gel方法中溶胶浓度、陈化时间以及退火温度对薄膜透过率的影响。当溶胶浓度为0．4M、陈化时间为6天以及退火温度达450℃时，制得的样品透过率可达99．3％，采用红外光谱分析了SiO2溶胶及凝胶的结构变化过程，发现随着陈化时间和退火温度增加，Si—O—Si键增强。

关 键 词：SIO2薄膜 减反射 溶胶-凝胶 红外光谱分析 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]