电子束在不同介质界面附近剂量跃变的蒙特卡罗模拟  

Accurate Monte Carlo Simulation of Electron Energy Deposition in Extended Media

作　　者：冉蜀阳[1] 傅玉川[1] 罗正明[1] 

机构地区：[1]四川大学原子核科学技术研究所辐射物理与技术教育部重点实验室,成都610064

出　　处：《四川大学学报（自然科学版）》2004年第1期101-105,共5页Journal of Sichuan University(Natural Science Edition)

摘　　要：在许多辐射剂量的应用中,都会涉及到如何精确地计算两种介质界面附近的剂量问题.作者用不同的多次散射模型,对多种介质界面附近的剂量跃变进行了蒙特卡罗模拟,并与相应的实验结果进行比较,研究了使用不同的多次散射模型对计算结果的影响.Energy deposition near the different media play an important role in many applied aspects of radiation dosimetry.Energy deposition in extended media(Al-Au, Cu-polystyrene, Be-Au-Be) is calculated with different multiple scattering (MS) of electrons models by Monte Carlo method respectively. The simulation results match the experiment acceptable well and show the differences caused by the MS models used.

关 键 词：不同介质界面 剂量跃变 蒙特卡罗模拟 

分 类 号：R144.1[医药卫生—公共卫生与预防医学] TL329.1[核科学技术—核技术及应用]