光子晶体的能带结构、制备技术和应用发展  

作　　者：张志峰[1] 林鹏[1] 熊德平[1] 匡萃方[2] 刘青益 

机构地区：[1]北京交通大学光电子技术所,北京100044 [2]北京交通大学理学院物理系,北京100044 [3]河南省许昌市教育学院物理系,许昌461000

出　　处：《光子技术》2004年第1期16-19,共4页Photon Technology

摘　　要：介绍了光子晶体的能带结构、制备技术和应用方面的最新的发展,光子晶体的光子能隙有完全能隙和不完全能隙的区分。光子晶体的制备技术大体可分为微电子制备技术、自组装技术和层层叠加技术。同时, 通过光子晶体一些应用方面的介绍,揭示了光子晶体的广阔的应用前景。

关 键 词：光子晶体 能带结构 光子能隙 自组装 微电子 层层叠加 

分 类 号：TN204[电子电信—物理电子学]