IBM旋涂法高性能半导体膜 电子迁移率达10倍  

出　　处：《现代材料动态》2004年第5期20-20,共1页Information of Advanced Materials

关 键 词：IBM 旋涂法 半导体膜 电子迁移率 美国国际商用机器公司 

分 类 号：TN304.055[电子电信—物理电子学]