模拟位错斑图的元胞自动机与分子动力学模型  

MODELLING DISLOCATION PATTERNS BY CELLULAR AUTOMATON AND MOLECULAR DYNAMICS

作　　者：张林[1] 张彩碚[2] 王元明[1] 王绍青[1] 

机构地区：[1]中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,沈阳110016 [2]东北大学理学院,沈阳110006

出　　处：《金属学报》2004年第6期599-603,共5页Acta Metallurgica Sinica

基　　金：国家重点基础研究发展规划资助项目G2000067104

摘　　要：建立了一个模拟位错斑图形成的元胞自动机-分子动力学模型.该模型考虑了在相同或不同滑移面上具有相反Burgers矢量方向的刃型位错间的长程与短程相互作用,采用分子动力学方法处理长程相互作用,采用元胞自动机方法处理短程相互作用应用这个模型,模拟了在没有外加应力和存在外加循环应力条件下的Cu单晶的位错结构.A model to describe dislocation patterns based on cellular automaton and molecular dynamics is presented, which takes into account the short-range interaction and long-range interaction between edge dislocations with opposite Burger's vectors on the same glide plane or the different glide planes. This model uses molecular dynamics to deal with long-range interaction, and cellular automaton to describe the short-range interaction. Using the model, the dislocation structures of single crystal Cu are simulated under no external stress and applied cyclic stress.

关 键 词：元胞自动机 分子动力学 位错斑图 

分 类 号：TB115[理学—数学]