AZO单层和AZO/Cu/AZO复合层薄膜光电性能的研究  

Study on the Photoelectric Properties of AZO and AZO/Cu/AZO Films

作　　者：王宇[1] 余云鹏[1] 张汉焱 林钢 徐从康 王江涌[1] 

机构地区：[1]汕头大学物理系,广东汕头 [2]汕头超声显示器有限公司,广东汕头 [3]无锡舒玛天科新能源技术有限公司,江苏无锡

出　　处：《材料科学》2018年第6期664-676,共13页Material Sciences

基　　金：广东省科技计划项目(编号2017A010103021)的赞助。

摘　　要：本文采用射频磁控溅射法在玻璃衬底表面制备了Al掺杂的ZnO薄膜(AZO膜)及AZO/Cu/AZO复合层薄膜,使用四探针薄膜方阻仪、分光光度计、XRD和辉光放电发射光谱仪对薄膜光电性能及成分进行了表征分析。研究了制备工艺参数和各膜层厚度对单层AZO及AZO/Cu/AZO薄膜光电性能的影响,并在衬底室温条件下制备了方阻低至65 Ω/□、平均透过率达85%的复合层薄膜。

关 键 词：ZNO 掺杂 复合层 溅射 方阻 透过率 

分 类 号：O48[理学—固体物理]