《薄膜科学与技术》

作品数：327被引量：207H指数：6
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《薄膜科学与技术》
主办单位：南京电子器件研究所
最新期次：1995年4期更多>>
发文主题：金刚石磁控溅射LB膜金刚石薄膜溅射更多>>
发文领域：电子电信理学一般工业技术电气工程更多>>
发文作者：项金钟邝安祥徐春同郑志豪陈元儒更多>>
发文机构：同济大学华东师范大学福州大学中国科学院上海冶金研究所更多>>
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非晶含锡有机膜的热处理行为
《薄膜科学与技术》1995年第4期356-361,共6页周坤磷 刘维民 
射频辉光放电等离子体聚合四丁基锡制备了非晶含锡有机膜，研究了该膜在大气中的热处理行为。表明在不同热处理温度下，发生了锡的氧化、有机物脱除、晶化和相变等过程。
关键词：含锡有机膜 热处理 晶化 相变 
一种比金刚石还硬的新型材料—β—C3N4被引量：1
《薄膜科学与技术》1995年第4期349-355,共7页吴招促 俞跃辉 
β－Ｃ３Ｎ４晶体是一种新型假想材料，其结构和β－Ｓｉ３Ｎ４晶体相似。β－Ｃ３Ｎ４材料从理论上预言可能具有比金刚石还大的体积模量，并有较为特殊的电学和光学性能。高含氮量的ＣＮ膜和多晶β－Ｃ３Ｎ４的研究成为目前的研究重点...
关键词：金刚石 体积模量 材料 β-C3N4材料 
C2H2／H2／SiH4等离子体聚合及其沉积物的结构与性能的研究被引量：1
《薄膜科学与技术》1995年第4期343-348,共6页邹湘坪 益小苏 
利用Ｃ２Ｈ２／Ｈ２／ＳｉＨ４混合单体等离子体聚合沉积在ＨＤＰＥ板表面制备薄膜，发现薄膜与ＨＤＰＥ粘接良好，Ｈ２使薄膜与基体附着性能提高但其沉积速率下降，而引入ＳｉＨ４则使薄膜的耐磨性能有较大的提高。ＩＲ和ＸＰＳ光谱表...
关键词：等离子体聚合 耐磨性能 化学气相沉积 薄膜 结构 
循环加载卸载对纳米压入法测量结果的影响
《薄膜科学与技术》1995年第4期387-390,共4页侯根良 徐可为 
通过在单晶Ａｌ、Ｍｏ表面进行压入实验考察了循环卸载对弹性模量和硬度测量值的影响，发现硬度基本无变化，弹性模量虽有变化但并不显著，认为可采用一次加载卸载进行测定和计算。
关键词：循环加载卸载 硬度 弹性模量 纳米压入法 金属 
离子镀技术的发展和现状被引量：13
《薄膜科学与技术》1995年第3期240-249,共10页遇衍澄 
本文分析研究了国内外离子镀技术的动态，阐述了离子镀的特点，介绍了离子镀设备及工艺的发展和现状以及实用的离子镀膜检测方法。
关键词：离子镀 镀层 抗腐蚀 发展 现状 
微电子机械系统（MEMS）研究现状与展望被引量：1
《薄膜科学与技术》1995年第3期250-259,共10页张寿柏 蔡炳初 
关键词：微电子机械系统 机械系统 微电子技术 
超短光脉冲到电脉冲转换的薄膜
《薄膜科学与技术》1995年第3期167-171,共5页吴全德 
关键词：薄膜 超短光脉冲 电脉冲 
光学薄膜成膜技术与光学防伪膜的进展被引量：1
《薄膜科学与技术》1995年第3期227-231,共5页林永昌 
关键词：光学薄膜 成膜技术 光学防伪膜 结构 
离子束薄膜合成及材料表面优化被引量：3
《薄膜科学与技术》1995年第3期232-239,共8页杨根庆 柳襄怀 
本文简略地回顾了离子束材料表面优化研究领域的发展及现状，着重介绍上海冶金研究所离子束开放研究实验室近年来在离子束薄膜合成及材料表面改性方面的研究工作。同时对离子束技术在工业中的应用进行了探讨。
关键词：离子束 薄膜合成 材料表面改性 掺杂 
超薄有序分子膜的研究进展及应用前景
《薄膜科学与技术》1995年第3期268-268,共1页陆祖宏 
近十年来超薄有序分子膜的研究发展非常迅速，在许多领域中的有着极为重要的应用前景。本报告将对有序分子膜的制备技术以及相应的表征方法等方面的国内外最新进展进行综述，并对超薄有序分子膜的液晶分子无摩擦定向，高分子样本超薄抗...
关键词：超薄有序分子膜 薄膜 分子膜 生长 
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