正交电磁场

作品数：44被引量：47H指数：4
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第十九讲 真空溅射镀膜
《真空》2015年第4期79-80,共2页张以忱 
电子e在电场E作用下被加速，在飞向基体的过程中与Ar气原子发生碰撞，若电子具有足够的能量（约30 eV），则电离出Ar＋和一个e，电子飞向基片， Ar＋在电场 E 作用下加速飞向阴极靶并以高能量轰击靶表面，使靶材产生溅射。在溅射粒子中...
关键词：溅射镀膜 真空技术 正交电磁场 二次电子 讲座 应用 回旋运动 电离几率 
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