平面研磨

作品数：36被引量：88H指数：7
导出分析报告
相关领域：金属学及工艺机械工程更多>>
相关作者：文东辉黄玉美袁巨龙周兆忠杨新刚更多>>
相关机构：浙江工业大学西安理工大学德清凯晶光电科技有限公司大连理工大学更多>>
相关期刊：《机械工程学报》《机械设计与制造》《制造技术与机床》《通用机械》更多>>
相关基金：国家自然科学基金浙江省自然科学基金教育部重点实验室开放基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-10
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
双轴式不定偏心法对提高磁粒研磨轨迹均匀性的研究
《电镀与精饰》2024年第11期67-75,共9页马小刚 王梓鉴 李厚乐 王泽志 
国家自然科学基金(51775258);辽宁省自然科学基金重点项目(20170540458);精密与特种加工教育部重点实验室基金(B201703)。
为解决TC4钛合金表面研磨不均匀、研磨轨迹重叠与加工效率低的问题,提出1种双轴式不定偏心磁粒研磨法。利用Adams软件模拟单颗磨粒的运动轨迹,采用统计方法计算运动轨迹密度的标准差值,作为平面运动轨迹均匀性的定量评价值。采用单轴式...
关键词：磁粒研磨 平面研磨 轨迹均匀性 ADAMS 表面粗糙度 平面度 
金属钼圆基片平面研磨及其表面创成机理研究
《表面技术》2024年第12期181-192,共12页阎秋生 陈缘靓 夏江南 雒梓源 汪涛 
国家重点研发计划(2023YFE0204400);广东省基础与应用基础研究基金(2023A1515010922)。
目的实现金属钼圆基片高效平坦化加工,获得超光滑表面。方法采用游离磨料对钼圆基片进行平面研磨加工,研究磨料种类及研磨盘转速、研磨压力、研磨时间等工艺参数对研磨效果的影响规律,通过材料去除率(MRR)与表面粗糙度(Ra)的建模分析,...
关键词：钼圆基片 研磨 工艺参数 材料去除率 表面粗糙度 加工机理 
MPCVD多晶金刚石片的研磨均匀性分析被引量：2
《金刚石与磨料磨具工程》2022年第6期705-712,共8页徐钰淳 朱建辉 王宁昌 师超钰 赵延军 邵俊永 徐帅 
河南省重大科技专项(221100230300);河南省科技攻关项目(222102230043);郑州市重大科技创新专项(2021KJZX0062)。
在游离磨料研磨过程中,研磨的驱动方式及工艺参数等直接影响加工后工件的平面度和表面粗糙度。为了探究基于旋摆式驱动的游离磨料研磨工艺参数对MPCVD多晶金刚石片平整化的影响,建立旋摆式驱动平面研磨过程中的单磨粒运动学模型,根据实...
关键词：旋摆式驱动 多晶金刚石片 平面研磨 磨粒轨迹 面形精度 材料去除率 
无理偏摆式平面研磨加工均匀性的数值模拟被引量：6
《机械工程学报》2021年第13期232-241,共10页肖燏婷 吴晓峰 蔡姚杰 文东辉 
国家自然科学基金(51775509);浙江省自然科学基金重点(LZ17E050003)资助项目。
基于定偏心平面研磨方式,提出了无理转速比下的偏摆式平面研磨方式。采用矢量方法建立了偏摆式平面研磨加工的运动学方程,对比分析了定偏心和偏摆式驱动下的工件表面磨粒轨迹和磨粒速度场的分布形态,并建立了运动轨迹密度均匀性和材料...
关键词：运动分析 研磨均匀性 偏心距 速度场 材料去除 
基于创制加工式的超镜面平面研磨抛光工艺方法的研究被引量：3
《制造技术与机床》2019年第6期46-51,共6页陈文清 
以光学镜面模具平面工件为实验工件,从加工设备、原材料配制以及工艺精度成形原理等方面系统提出一种超镜面平面研磨抛光工艺方法,制定相应的工艺实施路线并进行评价。成功解决了研磨抛光过程的润滑和发热等问题,从而降低工件表面出现...
关键词：超镜面平面 研磨抛光工艺 光学镜面模具 创制加工 或然性 
不定偏心平面研磨中固结磨具的均匀磨损被引量：1
《金刚石与磨料磨具工程》2019年第2期55-60,共6页张迪 尚春民 
吉林省自然科学基金(大尺寸金属镜超精密研磨加工技术研究;编号:20170101127JC)
固结磨具不定偏心平面研磨加工中,磨具的均匀磨损是保证加工工件面形精度的前提。结合固结磨具平面研磨中磨具均匀磨损理论,通过力学和运动学分析,探讨磨具均匀磨损的条件,推导出磨具上一点相对于工件的轨迹方程与相对速度以及磨具与工...
关键词：不定偏心 固结磨具磨具 均匀磨损 轨迹方程 
偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究被引量：6
《金刚石与磨料磨具工程》2018年第4期77-82,共6页严振 方从富 刘冲 
国家自然科学基金(51675193);福建省自然科学基金(2016J01235);华侨大学研究生科研创新能力培育计划资助项目(1611303039)
为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律,建立运动轨迹模型,用轨迹非均匀性定量方法进行评价。结果表明:偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著,而偏摆角速度(取到非特殊值时)对轨迹非均匀性影响很小。当...
关键词：研磨抛光 偏摆运动 轨迹非均匀性 
X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验被引量：5
《机械科学与技术》2018年第6期903-909,共7页刘清 张广鹏 高智学 黄玉美 
陕西省机械制造装备重点实验室基金项目(14JS062)资助
针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、X-Y联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律;在自主研发的样...
关键词：研磨加工 研磨轨迹仿真 X-Y联动的平面研磨 
抛光过程主要参数对中频误差形成的影响被引量：1
《光学与光电技术》2017年第1期54-58,共5页蔡发明 张蓉竹 
四川省教育厅创新团队(13TD0048)资助项目
为了确认抛光过程中抛光盘大小对光学元件表面中频误差的影响,对双轴式平面研磨抛光的去除特性进行了分析。推导了去除函数的表达式,计算了抛光盘大小对元件的去除量以及其分布的影响。结果表明,不论抛光盘大小如何改变,回转中心的去除...
关键词：平面研磨 去除量 去除函数 中频误差 
无理数转速比下的平面研磨轨迹均匀性研究被引量：8
《机电工程》2016年第5期532-536,共5页姬孟托 洪滔 文东辉 陈珍珍 蔡东海 
国家自然科学基金资助项目(51375457);浙江省自然科学基金资助项目(LY16E050013;Y14E050057)
平面研磨过程中磨粒与工件的相对运动轨迹分布对工件表面质量有重要影响。针对有理数转速比下的研磨加工过程中磨粒轨迹重复的问题,对磨粒相对工件的运动轨迹进行了研究,分析了典型的定偏心式主驱动方式平面研磨过程中磨粒轨迹对抛光均...
关键词：平面研磨 磨粒轨迹 无理数转速比 轨迹均匀性 
全选清除导出
共4页<1234>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部