动态存储器

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日本电电公司开发成功X射线曝光装置
《全球科技经济瞭望》1988年第3期27-28,共2页
据日本工业新闻报道,日本电电公司最近在世界上首次开发成功X射线曝光装置,可描绘0.2微米线宽,相当干目前100万位超大规模集成电路线宽的1/5。
关键词：曝光装置 X射线 线宽 日本工业 新闻报道 动态存储器 感光性树脂 描绘装置 准分子激光 放电电极 
目前世界微电子技术水平
《全球科技经济瞭望》1987年第7期8-,共1页
1.生产水平动态存储器最高生产水平为1M位,但大量的仍为256K位的电路。微处理器为32位,代表产品有美Intel公司的CHMOS及CMOS 1.5μ的32位微处理器,美Matrola公司的MC68030微处理器(1.5μ线宽)等。
关键词：动态存储器 生产水平 线宽 亚微米级 小批量生产 
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