V2O5薄膜

作品数:33被引量:76H指数:5
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磁控溅射法制备的五氧化二钒薄膜光电特性被引量:5
《光学精密工程》2015年第9期2438-2445,共8页张圣斌 左敦稳 卢文壮 左杨平 
国家自然科学基金资助项目(No.51275230);航空科学基金(No.20140152001);江苏省研究生科研创新基金资助项目(No.KYLX_0226);中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(No.3082013NP2013505)
利用射频磁控溅射方法,选取溅射时间为15,25,30和45min,在蓝宝石衬底上沉积了V2O5薄膜。研究了其他实验参量不变,溅射时间不同对薄膜结构、薄膜厚度、表面形貌、电学及光学性能的影响。实验结果表明,制备出的薄膜为单一组分的V2O5薄膜,...
关键词:V2O5薄膜 磁控溅射 溅射时间 薄膜厚度 电学性能 红外透过率 
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