CL2

作品数：308被引量：412H指数：7
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Evidence for Multiple Underlying Fermi Surface and Isotropic Energy Gap in the Cuprate Parent Compound Ca2CuO2Cl2被引量：1
《Chinese Physics Letters》2018年第6期84-89,共6页Cheng Hu Jian-Fa Zhao Ying Ding Jing Liu Qiang Gao Lin Zhao Guo-Oong Liu Li Yu Chang-Qing Jin Chuang-Tian Chen Zu-Yan Xu Xing-Jiang Zhou 
Supported by the National Key Research and Development Program of China(2016YFA0300300);the National Natural Science Foundation of China(11334010 and 11534007);the National Basic Research Program of China(2015CB921000);the Strategic Priority Research Program(B)of Chinese Academy of Sciences(XDB07020300)
The parent compounds of the high-temperature cuprate superconductors are Mott insulators.It has been generally agreed that understanding the physics of the doped Mott insulators is essential to understanding the mecha...
关键词：CuO Evidence for Multiple Underlying Fermi Surface and Isotropic Energy Gap in the Cuprate Parent Compound Ca2CuO2Cl2 Ca Cl 
Cl_2/Ar/O_2环境下使用光刻胶掩膜的感应耦合等离子体(ICP)刻蚀GaAs的研究被引量：3
《真空科学与技术学报》2017年第3期286-289,共4页范惠泽 刘凯 黄永清 蔡世伟 任晓敏 段晓峰 王琦 刘昊 吴瑶 费嘉瑞 
信息光子学与光通信国家重点实验室(北京邮电大学)基金项目(IPOC2016ZT10);国家重点基础研究发展计划项目(2010CB327600);国家自然科学基金项目(61020106007);国家自然科学基金项目(61274044);北京自然科学基金项目(4132069);重点国际科技合作项目计划(2011RR000100);111工程计划(B07005);教育部长江学者和创新团队发展计划资助项目(IRT0609)
自1970年,元件制造首先采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术后,至今30多年,它的发展与集成电路和光电子器件发展密不可分,很大程度上,干法刻蚀的水平决定了整个产业的水平和规模。在本文中,本课题组使用ICP刻蚀技术刻蚀GaAs材料,在Cl_2/A...
关键词：GAAS 感应耦合等离子体刻蚀 CL2 O2 刻蚀速率 表面的粗糙度 
医疗废物典型组分在热解/焚烧过程中无机氯的析出特性
《化工进展》2012年第4期927-932,共6页梁娟娟 李晓东 严密 陆胜勇 严建华 
国家高技术研究发展计划(2007AA06Z336);国家重点基础研究发展计划(2011CB201500)项目
为研究医疗废物典型组分热解/焚烧过程无机氯的析出特性,检测了不同热解温度、焚烧温度和气流量等工况下无机氯的释放,分析了多种典型组分对输液管无机氯析出特性的作用。结果表明,工况变化对医疗废物无机氯总析出的影响不大,对Cl-Cl2和...
关键词：医疗废物 无机氯 HCL CL2 转化率 
Isotopic effect of Cl_2^+ rovibronic spectra in the A-X system被引量：1
《Chinese Physics B》2009年第7期2724-2728,共5页吴玲 杨晓华 陈扬骎 
Project supported by the National Natural Science Foundation of China (Grant Nos 10434060 and 10574045);the National Key Basic Research and Development Program of China (Grant No 2006CB921604);the Basic Key Program of Shanghai Municipality(Grant Nos 07JC14017 and 07dz22025);State Key Laboratory of Magnetic Resonance and Atomic and Molecular Physics of China (Grant No T152616);State Key Laboratory of Precision Spectroscopy and Department of Education of Zhejiang Province of China (Grant No Y200701718)
This paper studies the isotopic effect of Cl2^＋ rovibronic spectra in the A^2Лu （Ω = 1/2）-X^2Лg （Ω = 1/2） system. Based on the experimental results of the molecular constants of ^35Cl2^＋, it calculates the v...
关键词：Cl2^＋ isotope shifts molecular constants 
Cl2/H2 ICP刻蚀优化及其在1.55μm DFB激光器制作中的应用被引量：2
《光电子．激光》2009年第5期583-586,共4页江山 董雷 张瑞康 罗勇 谢世钟 
国家高技术研究发展计划资助项目(2006AA03Z427);国家重点基础研究发展规划资助项目(2003CB314903)
采用特别设计的InGaAsP/InP多量子阱结构(MQW),研究了Cl2/H2电感耦合等离子体(ICP)刻蚀损伤,优化了低损伤ICP刻蚀的关键工艺参数,得到了一种低损伤、形貌良好的Bragg光栅的制作方法。结合优化的InP材料金属有机物化学气相沉积(MOCVD)外...
关键词：电感耦合等离子体(ICP)刻蚀 金属氧化物化学气相沉积(MOCVD) 分布反馈(DFB)激光器 可靠性 
Reactions Between Humic Acid Solutions and Excessive ClO_2 or Cl_2
《Journal of Donghua University(English Edition)》2007年第5期622-626,共5页葛元新 朱志良 马红梅 赵建夫 
Natural Science Foundation of China (No50478103);State Key Project for Small Towns Development of Ministry of Science and Technology of China (No2003BA808A17)
Reactions between humic acid solutions and excessive ClO2 or Cl2 have been investigated. Under various experimental conditions, the removal efficiency of TOC, UV254and A410 from humic acid solutions were examined. The...
关键词：humic acid CLO2 Cl2  removal efficiency drinking water 
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