超快非线性干涉仪

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光学测量与仪器
《电子科技文摘》2000年第4期95-96,共2页
Y2000-62031-89 0006512利用光电发射显微镜对具有小于0.1μm 的空间分辨率的 MOS 氧化物缺陷位置的识别=Identification ofMOS oxide defect location with a spatial resolution lessthan 0.1μm using photoemission microscope[会,...
关键词：光学测量 空间分辨率 光电发射 超快非线性干涉仪 缺陷位置 扫描隧道显微镜 半导体激光器 氧化物 仪器 半导体光放大器 
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