陆晶

作品数：2被引量：5H指数：1
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供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室更多>>
发文主题：分辨率移相掩模技术移相掩模光刻交替式更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《微细加工技术》《固体电子学研究与进展》更多>>
所获基金：国家自然科学基金更多>>
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100 nm分辨率交替式移相掩模设计被引量：1
《固体电子学研究与进展》2005年第2期260-264,共5页陆晶 陈宝钦 刘明 龙世兵 李泠 
获国家自然基金支持(自然基金号60376020)
讨论了100nm分辨率交替式移相掩模设计中的关键问题,以及通过对版图的拓扑分析,建立自动化的解决相位冲突的各种方法。通过比较,确立了分层叠加曝光的方案,并针对分层叠加曝光技术,进行了100nm节点中分层技术中两种关键图形的模拟。得...
关键词：交替式移相掩模 相位冲突 光学临近效应校正 
100nm分辨率的移相掩模技术被引量：4
《微细加工技术》2003年第4期27-32,共6页陆晶 陈宝钦 刘明 王云翔 龙世兵 李泠 
国家自然基金资助项目(60376020)
介绍了移相掩模技术的基本原理,对几种主要的移相掩模技术进行了比较,指出了各种移相方式的特点和应用局限性,并针对100nm分辨率的技术节点,阐述了各种移相方式在应用中应该解决的问题。
关键词：分辨率 移相掩模 二元掩模 光刻 交替式 衰减式 
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