方勇

作品数：9被引量：21H指数：2
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供职机构：西安工业学院光电工程学院更多>>
发文主题：CF卡心电图端部液晶显示器AVR单片机更多>>
发文领域：一般工业技术机械工程理学自动化与计算机技术更多>>
发文期刊：《仪器仪表学报》《激光与红外》《应用光学》《真空》更多>>
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端部中空离子源的磁路研究
《真空》2005年第6期52-54,共3页朱昌 潘永强 方勇 
研究了端部中空离子源的磁路设计。在简要叙述端部中空离子源的基本原理及其对磁场要求的基础上,考虑了在设计离子源磁路时的关键问题和解决方法,并给出了实验结果和分析结论。
关键词：离子源 磁路 
电焊护目诱导透射滤光片的研究被引量：1
《激光与红外》2005年第9期700-702,共3页潘永强 卢进军 宋俊杰 方勇 
利用金属膜和介质膜组合的诱导透射滤光片具有高峰值透过率与宽截止区的特点,设计了在紫外区和红外区截止,在可见光区有指定要求透过率的电焊护目镜。并通过工艺研究,成功地研制出了无需胶合保护的电焊护目镜滤光片,且成功消除了长波旁...
关键词：势透过率 诱导率光片 长波旁通带 离子束铺助沉积 
基于CCD采集的Mach-Zehnder干涉条纹图的处理算法被引量：9
《应用光学》2005年第2期40-42,共3页杨利红 施浣芳 陈智利 方勇 
　Mach-Zehnder干涉仪适用于研究气体密度迅速变化的状态。由于气体折射率的变化与其密度的变化成正比,而折射率的变化将使通过气体的光线有不同的光程,因此可通过干涉臂变化对干涉条纹图像效果的影响得到气体密度。实测中,采用图像采...
关键词：干涉条纹图 图像采集卡 CCD 接收 算法 折射率 气体密度 二值化 计算机 细化 
宽束冷阴极和端部霍尔离子源对薄膜透过率和应力的影响被引量：1
《应用光学》2005年第2期51-53,共3页刘文军 弥谦 秦君君 方勇 杨利红 
　在宽束冷阴极离子源和端部霍尔离子源辅助沉积情况下,利用南光ZZS700-1/G箱式镀膜机,通过实验分别验证了这两种离子束辅助沉积对光学膜层透过率和应力的影响。通过对大量实验数据进行分析,得出利用低能量和大电流离子束辅助沉积光学...
关键词：宽束冷阴极离子源 端部霍尔离子源 离子束辅助沉积 光学薄膜 
端部霍尔等离子体源沉积类金刚石膜的研究被引量：2
《材料科学与工程学报》2005年第2期188-190,共3页潘永强 朱昌 弥歉 方勇 
本文通过对端部霍尔离子源特性的研究 ,采用自行研制的用于离子束辅助沉积的端部霍尔离子源成功镀制了类金刚石膜 ,并对采用该离子源制备类金刚石膜的工艺进行了研究和分析。实验结果表明 ,采用端部霍尔离子源镀制类金刚石膜不仅操作简...
关键词：端部霍尔离子源 类金刚石膜 红外光谱 
用于离子束辅助镀膜的两种模式端部霍尔离子源的比较被引量：5
《真空》2004年第5期38-41,共4页潘永强 朱昌 方勇 斯瓦德科夫斯基 达斯坦科 
介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的端部霍尔离子源的工作原理,并论述了端部霍尔离子源的离子能量、离子分布特性的测试方法;详细论述了电磁场和永久磁场两种模式下,端部霍尔离子源的工作稳定性、离子能量大小以及离子束分布特性...
关键词：离子束辅助镀膜 端部霍尔离子源 电磁场 永久磁场 
光学测试固体微粒直径的新方法
《西安工业学院学报》2004年第4期364-366,共3页方勇 朱昌 
　为满足实时性和精度的要求,对固体微粒直径进行快速、准确测量.文中测试方法利用光学中Mie散射原理和Fraunhofer衍射原理设计了光学测试系统.根据散射光强分布与固体微粒直径的关系,用数学迭代法结合计算机技术对数据进行处理,快速获...
关键词：光学测试 Mie散射原理 Fraunhofer衍射原理 微粒直径 数据处理 
心电图信号采集与存储系统的设计被引量：2
《西安工业学院学报》2004年第2期148-150,159,共4页方勇 朱昌 
　采用低功耗AVR单片机、点阵液晶、存储记录卡以及实时时钟芯片等器件设计了心电图信号采集与存储系统,对心电图信号采集与存储系统从重量、体积、功耗以及功能等方面进行改善,方便使用.对心电图信号采集与存储系统的工作原理、工作流...
关键词：单片机 点阵液晶显示器 CF卡 DS1302时钟芯片 心电图 信号采集 
心电图的采集与存储被引量：1
《仪器仪表学报》2004年第z1期360-361,369,共3页朱昌 方勇 朱保文 
介绍了采用AVR单片机ATMEGA128L,点阵液晶显示器MotorolaMC141803AT,CompactFlash记录卡,DS1302时钟芯片等器件设计了心电图采集与存储系统,并对系统的工作原理,系统功能及其设计方法进行了讨论。
关键词：AVR单片机 液晶显示器 CF卡 DS1302时钟芯片 
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