潘意杰

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供职机构：浙江大学电气工程学院超大规模集成电路设计研究所更多>>
发文主题：分辨率增强技术光学邻近校正可制造性设计优化设计更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《机电工程》更多>>
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双重图形技术的优化设计
《机电工程》2008年第12期35-38,共4页潘意杰 陈晔 
作为集成电路光刻设计下一节点发展的候选之一,双重图形技术(DPT)面临的诸多复杂过程将影响其在制造领域的迅速应用,其中最突出的因素是设计的复杂度和数据量急剧增长。通过分析版图分解问题和光学邻近校正(OPC)中的信息重用,在重分解...
关键词：可制造性设计 双重图形技术 光学邻近校正 分辨率增强技术 重用 
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