付光宗

作品数：7被引量：25H指数：2
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供职机构：重庆大学数理学院应用物理系更多>>
发文主题：磁控溅射直流磁控溅射光学性质透光率光电特性更多>>
发文领域：电子电信一般工业技术理学金属学及工艺更多>>
发文期刊：《中国机械工程》《微型计算机》《真空科学与技术学报》《真空》更多>>
所获基金：教育部“新世纪优秀人才支持计划”重庆市科技攻关计划重庆市自然科学基金国家自然科学基金更多>>
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导热涂层对LED散热性能的影响被引量：19
《半导体光电》2007年第6期793-796,共4页张淑芳 方亮 付光宗 谈笑铃 董建新 陈勇 高岭 
教育部新世纪优秀人才支持计划项目(NCET-05-0764);重庆市自然科学重点基金项目(CSTC2005BA4016)
研究了导热涂层对不同发光颜色、不同封装数量的水下密闭环境下应用的发光二极管(LED)散热情况的影响,结果表明:红色LED的温度上升最慢,蓝色次之,绿色LED的温度上升最快;封装数量越多,LED的温升越快;在LED系统集成电路板上加入导热涂层...
关键词：导热涂层 散热性能 LED 硅胶 硅脂 
透明导电CdIn2O4薄膜的结构和Seebeck效应
《Journal of Semiconductors》2007年第z1期67-75,共9页杨丰帆 方亮 李丽 付光宗 张勇 李明伟 喻江涛 
重庆市科技攻关重大项目(批准号;CSTC2005AA4006-A6),教育部新世纪优秀人才计划(批准号：NCET-05-0764)和国防预研项目(批准号:40401030202)资助项目
在Ar和O2混合气氛中,利用直流反应磁控溅射Cd-In合金靶制备了CdIn2O4(简称CIO)薄膜,利用AFM和XRD技术表征了薄膜的形貌和组成,用XPS分析了薄膜的化学成分和元素价态,并在室温下测量了CIO薄膜的Seebeck效应以及加入磁场后的Seebeck效应....
关键词：透明导电CdIn2O4薄膜 结构 SEEBECK效应 温差电动势率 
未来存储谁主天下？
《微型计算机》2005年第22期128-133,共6页张淑芳 方亮 付光宗 
近年来NAND型闪存在存储容量上的飞速发展，吸引了众多关注的目光，其能否取代硬盘成为未来主要的存储手段已在业务引起广泛争论。为此，本文在简要阐述NAND型闪存基本原理和结构的基础上，从速度，容量，价格，使用寿命等方面，与硬盘...
关键词：存储容量 使用寿命 闪存 D型 硬盘 
直流磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及电学性质研究
《真空科学与技术学报》2005年第z1期86-89,共4页李丽 方亮 廖克俊 刘高斌 杨丰帆 付光宗 
重庆大学研究生创新基金(No.200506Y1B0240131);重庆市科技攻关项目(No.CSTC2005AA4006-A6);重庆大学数理学院青年基金资助
本文采用直流反应磁控溅射方法在平面玻璃上制备了ZnO薄膜.所得的ZnO薄膜利用X光衍射,扫描电子显微镜和原子力显微镜进行分析和表征.实验结果表明,ZnO薄膜的结构和电学性质与合成条件密切相关.并测试了ZnO薄膜的温差电动势,得出薄膜中...
关键词：ZNO薄膜 磁控溅射 温差电动势率 载流子浓度 
超薄铝膜的制备与透光率的研究被引量：1
《中国机械工程》2005年第z1期352-354,共3页付光宗 杨丰帆 杨小红 廖克俊 刘高彬 
当铝(Al)膜的厚度在100nm时,可以作为一种光学薄膜使用.用这种超薄铝膜制成光学元件具有耐激光以及损耗小等特点,在大功率激光系统中将得到应用.利用高纯铝靶,运用直流磁控溅射法制备了超薄铝膜,利用双光束分光光度计研究了其光学性质,...
关键词：超薄铝膜 透射率 光学性质 直流磁控溅射 
退火处理对CdIn_2O_4薄膜光电特性的影响及温差电动势的研究
《真空》2004年第3期35-37,共3页杨丰帆 王万录 廖克俊 付光宗 张瑞俭 曹春兰 
研究了直流磁控反应溅射制备三元化合物CdIn2O4薄膜(简称CIO膜)的光电性质和温差电动势,及其反应气体中氧浓度和退火处理对CIO膜性质的影响。结果表明CIO膜在可见光区有良好的导电性和透光性,退火处理明显提高了膜的透光率和载流子浓度...
关键词：CIO膜 光电特性 退火处理 温差电动势 
多壁碳纳米管膜湿敏特性的研究被引量：5
《物理学报》2004年第10期3462-3466,共5页吴子华 王万录 廖克俊 王永田 胡陈果 付光宗 万步勇 余鹏 
国家自然科学基金 (批准号 :60 3 760 3 2 )资助的课题~~
研究了多壁碳纳米管 (MWNTs)薄膜的湿敏特性 ,实验所用的多壁碳纳米管是用热灯丝化学气相沉积法 (CVD)合成的 .分别对未修饰和修饰的多壁碳纳米管膜温度和湿度特性进行研究后发现 ,修饰的多壁碳纳米管对温度和湿度非常敏感 ,且对湿度的...
关键词：多壁碳纳米管 湿敏特性 表示式 化学气相沉积法 修饰 薄膜 合成 恢复时间 敏感 研究 
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