王力元

作品数：26被引量：47H指数：3
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供职机构：北京师范大学化学学院更多>>
发文主题：光产酸剂光致抗蚀剂光刻胶缩醛I更多>>
发文领域：化学工程理学电子电信轻工技术与工程更多>>
发文期刊：《应用科技》《高等学校化学学报》《影像视觉》《影像科学与光化学》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划北京市自然科学基金北京市优秀人才培养资助更多>>
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含POSS光刻胶材料研究进展被引量：2
《影像科学与光化学》2019年第5期465-472,共8页尤凤娟 韩俊 严臣凤 王力元 
光致抗蚀剂又称光刻胶,是微电子加工过程中的关键材料。多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)是一种具有规则的笼型结构的聚合物增强材料,由POSS改性的聚合物实现了有机-无机纳米杂化,POSS刚性结构的引入阻碍了聚合物分子的运动,可以显著提高聚...
关键词：光致抗蚀剂 含POSS 光刻 耐蚀刻性 
一种高感度深紫外正性化学增幅型抗蚀剂的制备
《高等学校化学学报》2017年第5期896-901,共6页吴立萍 胡凡华 王倩倩 王菁 王力元 
国家重点基础研究发展计划项目(批准号:2013CBA01703);国家自然科学基金(批准号:51641301)资助~~
聚对羟基苯乙烯和环己基乙烯基醚反应得到缩醛保护的聚合物.该聚合物易溶于常见的有机溶剂,具有较好的热稳定性,在248 nm处透明性良好.该聚合物可与聚对羟基苯乙烯-甲基丙烯酸金刚烷基酯及二砜光产酸剂等组成一种三组分正性化学增幅型...
关键词：光致抗蚀剂 深紫外 化学增幅 聚对羟基苯乙烯 缩醛 
嵌段共聚物的导向自组装被引量：3
《化学进展》2017年第4期435-442,共8页王倩倩 吴立萍 王菁 王力元 
嵌段共聚物由于其在纳米尺度的自组装能力,通过在薄膜中的自组装可以得到特征尺寸小于10nm的周期性图形结构,近年来被广泛研究。导向自组装(Directed Self-Assembly,DSA)充分利用了嵌段共聚物在薄膜中进行自组装的优点,将"自下而上"的...
关键词：导向自组装 嵌段共聚物 光刻 分辨率 制图外延 化学外延 
间苯二酚杯芳烃——化学家的建筑积木被引量：1
《化学教育》2016年第4期1-4,共4页刘娟 王力元 
北京市优秀人才培养资助项目
间苯二酚杯芳烃是超分子化学的第3代主体分子。介绍了间苯二酚杯芳烃的结构、衍生化途径及其衍生物的用途。
关键词：间苯二酚杯芳烃 结构 衍生化途径 衍生物 
含碘鎓盐光产酸剂和增感染料的化学增幅型i-线正性光致抗蚀剂被引量：1
《影像科学与光化学》2011年第6期430-437,共8页刘娟 孔繁荣 余金星 王力元 
国家自然科学基金(50773006)
4,4′-二甲苯基三氟甲磺酸碘鎓盐可以被染料增感,在365nm光照时分解产酸.尽管产生的酸与染料的胺基发生作用,依然能在后烘过程中催化缩醛聚合物酸敏基团的分解,但需要稍高的后烘温度和稍长的后烘时间.基于此,本文将酚醛树脂、缩醛聚合...
关键词：敏化剂 产酸剂 染料 正型 i-线抗蚀剂 酸解 缩醛聚合物 
几种硫鎓盐类光产酸剂的合成与性质
《影像技术》2011年第4期13-16,12,共5页刘娟 王争 王力元 
北京市自然科学基金(批准号:2082014)的支持
硫鎓盐类光产酸剂因其较高的产酸效率和好的热稳定性而广泛应用于化学增幅光致抗蚀剂中。本论文选择不同的酚化合物为原料,使之与二甲基亚砜和氯化氢反应,合成了一系列硫鎓盐化合物,研究了其在有机溶剂中的溶解性、热稳定性、紫外吸收...
关键词：光产酸剂 光致抗蚀剂 硫鎓盐 光解 量子效率 
高酸解性聚合物的合成及应用被引量：1
《应用科技》2010年第8期53-57,共5页贾越 孔繁荣 王力元 
国家自然科学基金资助项目(50773006)
采用常见的芳香二酸（对苯二甲酸和1,4-萘二甲酸）与1,4-二（2-乙烯氧基乙氧基）苯（1,4-DVEB）聚合,得到了2种新型的芳香酯缩醛聚合物,这些聚合物在各种常用溶剂如丙二醇甲醚醋酸酯（PG-MEA）、二氧六环、乙二醇乙醚中有较好的溶解性,...
关键词：化学增幅 芳香酯缩醛聚合物 二乙烯基醚 光产酸剂 感度 CTP版材 
基于酸解型聚甲基丙烯酸酯的化学增幅成像材料及应用被引量：1
《影像技术》2009年第3期13-16,共4页黎莹 程龙 王力元 
甲基丙烯酸分别与乙烯基乙基醚和二氢吡喃反应得到羧基被保护的酯化物。这些甲基丙烯酸酯单体进行均聚并分别与甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸—2—羟乙酯进行二元共聚。这些聚合物的保护基具有在室温下的高酸解活性,可以和产酸剂(三嗪化合...
关键词：甲基丙烯酸酯 酸解 产酸剂 化学增幅光致抗蚀剂 PS版 热敏CTP版 
基于酸解型聚甲基丙烯酸酯的化学增幅成像材料及应用
《影像技术》2009年第2期21-24,共4页黎莹 程龙 王力元 
北京市自然科学基金(2082014)资助项目
甲基丙烯酸分别与乙烯基乙基醚和二氢吡喃反应得到羧基被保护的酯化物。这些甲基丙烯酸酯单体进行均聚并分别与甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸-2-羟乙酯进行二元共聚。这些聚合物的保护基具有在室温下的高酸解活性,可以和产酸剂(三嗪化合物...
关键词：甲基丙烯酸酯 酸解 产酸剂 化学增幅光致抗蚀剂 PS版 热敏CTP版 
193nm光致抗蚀剂用新型阻溶剂的合成及性能研究
《黑龙江大学自然科学学报》2009年第2期251-254,共4页王文君 王力元 
国家"十五""863"专项子课题(2002AA3Z13302)
以松香酸为主原料合成了适用于193nm光致抗蚀剂的新型阻溶促溶剂,并对其热稳定性、成像性质等进行了研究。结果表明:新型阻溶剂不仅具有良好的热稳定性和阻溶促溶作用,而且在193nm具有良好的透明性,可以应用于193nm光刻胶工艺。
关键词：193 nm光致抗蚀剂 阻溶剂 成像性质 热稳定性 
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