康勃

作品数:6被引量:56H指数:3
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供职机构:北京科技大学冶金与生态工程学院更多>>
发文主题:透明导电薄膜射频磁控溅射共掺杂分子泵机械泵更多>>
发文领域:金属学及工艺一般工业技术理学自然科学总论更多>>
发文期刊:《表面技术》《材料导报(纳米与新材料专辑)》《硬质合金》《材料科学与工艺》更多>>
所获基金:北京市科委科技计划项目更多>>
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退火气氛对Al-F共掺杂ZnO薄膜结构和光电性能的影响被引量:1
《太阳能学报》2011年第1期49-53,共5页马瑞新 王海峰 王目孔 康勃 吴中亮 
用射频磁控溅射法制备了Al-F共掺杂ZnO(ZnO(Al,F))透明导电薄膜,研究了不同退火气氛对ZnO(Al,F)薄膜的结构、电学和光学特性的影响。结果表明:在真空和还原性气氛中退火后的薄膜透光率呈现'蓝移'趋势,在空气中退火处理后的薄膜透光率则...
关键词:ZnO(Al F) 透明导电薄膜 退火 射频磁控溅射 
双向脉冲电镀工艺参数对Na_2WO_4-ZnO-WO_3熔盐镀钨层织构的影响被引量:3
《材料科学与工艺》2009年第6期754-756,760,共4页马瑞新 林炜 吴中亮 康勃 王目孔 
熔盐镀钨过程中镀层织构的表成与演化及其控制的研究(50571010)
采用双向脉冲电镀工艺镀钨,并对工艺参数影响镀钨层织构进行研究.首次采用(222)不完整极图对钼片基体上的钨镀层织构进行研究.结果表明:钨镀层具有为{001}<110>织构;工艺条件的变化对镀层织构的影响主要体现在织构的散漫程度随着脉冲周...
关键词:Na2WO4-ZnO-WO3熔盐 镀钨层 脉冲镀 
转底炉法制备细晶粒铜最佳条件的研究
《材料导报(纳米与新材料专辑)》2008年第2期212-214,共3页吴中亮 马瑞新 艾琳 汪春平 孙鹏 张亚东 康勃 王目孔 
作为半导体用的铜靶材,其晶粒大小严重影响溅镀薄膜的品质,靶材晶粒的细化技术成为关键。依据转底炉法原理制备了一种片状铜,并对其晶粒尺寸的变化进行了研究,通过分析发现:坩埚底孔直径越小,底转盘转速越快,底转盘传热越好;在底转盘冷...
关键词:转底炉法 铜带 晶粒尺寸 
TiAlN硬质薄膜/涂层材料的研究进展被引量:21
《硬质合金》2008年第3期186-191,共6页王目孔 马瑞新 林炜 康勃 吴中亮 
概述了TiAlN硬质薄膜/涂层材料的基本性质、应用及制备技术的发展。介绍了国内外利用磁控溅射法(MS)、空心阴极离子镀(HCD)、多弧离子镀等镀膜工艺制备TiAlN硬质薄膜材料的最新研究进展。TiAlN薄膜应用于切削加工、航空、航天和模具中...
关键词:TiAlN硬质薄膜 制备方法 性能 应用 
现代刀具涂层制备技术的研究现状被引量:22
《表面技术》2008年第2期71-74,共4页康勃 马瑞新 吴中亮 王目孔 林炜 
刀具涂层是一种机床工具行业的重要材料,其性能直接影响数控机床的机械加工精度。概述了刀具涂层材料的特点、要求及涂层制备技术的发展,分析了化学气相沉积法、物理气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积法及溶胶-凝胶法等几种涂层制...
关键词:刀具涂层 化学气相沉积 物理气相沉积 溶胶-凝胶 
(Al,Zr)共掺杂ZnO透明导电薄膜的结构以及光电性能研究被引量:10
《液晶与显示》2007年第5期560-564,共5页薛建设 林炜 马瑞新 康勃 吴中亮 
北京市科委科技计划资助项目(No.D0306006000091;No.D0304002000021)
用射频磁控溅射法在玻璃衬底上氩气气氛中制备出(Al,Zr)共掺杂的ZnO透明导电薄膜,研究了不同Zr掺杂浓度和薄膜厚度ZnO薄膜的结构、电学和光学特性。结果表明,在最佳沉积条件下我们制备出了具有(002)单一择优取向的多晶六角纤锌矿结构,...
关键词:氧化锌 透明导电薄膜 电阻率 透光率 射频磁控溅射 
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