刘永进

作品数：11被引量：13H指数：2
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供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
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电镀技术在大马士革工艺中的应用研究被引量：2
《电子工业专用设备》2022年第1期20-24,共5页林煦呐 刘福强 刘永进 刘一鸣 
电镀是一种良好的实现金属沉积的电化学工艺方法。为探索电镀技术在大马士革工艺中的应用,先介绍了电镀的基本理论,然后阐述了双大马士革的工艺流程,继而从电镀液和脉冲电镀方面分析了电镀对大马士革工艺的影响。结果表明镀液中的Cl-对...
关键词：集成电路 铜电镀 大马士革工艺 
电化学沉积设备在集成电路制造中的应用及发展现状被引量：1
《电子工业专用设备》2016年第11期4-6,25,共4页刘永进 
根据集成电路发展的趋势,分析了电化学沉积设备在集成电路行业的应用。通过及国外各主流设备的特点及国内设备的现状阐述,指出了国内在电化学沉积设备及技术方面,与国外水平存在巨大的差距。
关键词：电化学沉积 集成电路 应用 
基于CAN总线的机械手通信协议的设计与实现
《电子工业专用设备》2014年第12期23-26,38,共5页刘玉倩 刘永进 宋文超 
描述了一种真空吸片式机械手通信协议的设计方案。机械手通信的硬件实现基于CAN总线,具有高精度、实时性和可靠性高等特点,控制软件在Windows下使用VC++6.0编程,具有友好的人机界面和可操作性。概述了机械手的基本功能和应用领域,详细...
关键词：控制器局域网 机械手 通信协议 自动化 
全自动光刻版清洗机工艺原理与工作过程介绍被引量：1
《电子工业专用设备》2014年第2期23-27,37,共6页宋文超 刘永进 王刚 张利军 侯为萍 
介绍了常用的光刻版清洗工艺,并详细讲解了全自动光刻版清洗机的工作过程。同时,简单介绍了为提高光刻版清洗效果而设计的浸泡系统、药液供给与循环系统和温控系统。
关键词：半导体 光刻版清洗 单晶圆清洗 自动设备 
光刻版清洗工艺及设备研究被引量：2
《电子工业专用设备》2013年第10期9-11,62,共4页刘永进 刘玉倩 宋文超 
光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段。根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺及相关设备的种类及组成,最后通过试验考查了工艺设备的使用效果。
关键词：光刻版 清洗 工艺设备 
光刻版清洗工艺及设备研究被引量：1
《电子工业专用设备》2013年第11期19-21,57,共4页刘永进 刘玉倩 宋文超 
光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段。根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺,并介绍了相关工艺设备的种类及组成,最后通过试验考查了工艺设备的使用效果。
关键词：光刻版 清洗 工艺 设备 
针对连续式化学镀的清洗技术
《电子工业专用设备》2013年第7期7-8,36,共3页刘永进 张伟锋 高津平 
连续式化学液镀的清洗具有连续工作、用水量大的特点,特别对于镀液中含有有毒离子时,废液处理费用昂贵。针对连续式化学镀的这一特点,介绍了一种"三级溢流、六级清洗"的清洗方式,能够在保证清洗效果的同时大大降低废液的产生量。
关键词：连续式 化学镀 清洗 
JBQ-3200型全自动金属膜剥离清洗系统研制技术被引量：1
《电子工业专用设备》2013年第4期49-54,共6页陈仲武 宋文超 张伟锋 刘永进 
主要介绍了JBQ-3200型全自动金属膜剥离清洗系统设备功能、用途、结构组成、性能指标、主要特点,以及解决的关键技术和应用,能自动完成厚度在0.25～0.7 mm的准100～准200 mm具有基准边的标准圆片微细图形金属膜剥离、清洗和甩干工艺,剥...
关键词：金属膜剥离 自动传输系统 剥离清洗腔体 CCD中心定位 电气控制 软件系统 
超声技术在半导体行业中应用探讨
《电子工业专用设备》2012年第10期4-5,20,共3页宋伟峰 成龙 刘永进 关宏武 
晶片的洁净程度直接决定了晶片的价值,而晶片最前端工艺就是清洗。现代化超声技术的应用可让晶片更洁净。超声波清洗的功率、频率、尺寸、安装方式的选择都与晶片清洁程度有着密切关系。主要对超声波的原理和频率的选定进行了介绍。
关键词：超声波 兆声波 清洗 
单晶圆兆声清洗技术研究及兆声喷头方案优化被引量：4
《电子工业专用设备》2011年第1期15-17,共3页刘永进 杜建科 冯小强 
基于单晶圆兆声清洗的原理,分析了针对单晶圆兆声清洗的多种方案的优缺点,提出了适合单晶圆兆声清洗的优化方案。
关键词：单晶圆 兆声 清洗 
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