王云翔

作品数：1被引量：4H指数：1
导出分析报告
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室更多>>
发文主题：移相掩模技术移相掩模分辨率光刻交替式更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《微细加工技术》更多>>
所获基金：国家自然科学基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-1
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
100nm分辨率的移相掩模技术被引量：4
《微细加工技术》2003年第4期27-32,共6页陆晶 陈宝钦 刘明 王云翔 龙世兵 李泠 
国家自然基金资助项目(60376020)
介绍了移相掩模技术的基本原理,对几种主要的移相掩模技术进行了比较,指出了各种移相方式的特点和应用局限性,并针对100nm分辨率的技术节点,阐述了各种移相方式在应用中应该解决的问题。
关键词：分辨率 移相掩模 二元掩模 光刻 交替式 衰减式 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部