朱磊

作品数：1被引量：5H指数：1
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β-Ga_2O_3(100)面的CMP研究及优化被引量：5
《微纳电子技术》2017年第3期208-212,共5页徐世海 李晖 高飞 练小正 朱磊 陈阳 
主要研究了Czochralski法生长的β-Ga_2O_3单晶片的化学机械抛光(CMP)。采用酸性硅溶胶溶液作为抛光液,对经过切割、机械抛光后的10 mm×10 mmβ-Ga_2O_3单晶片进行了CMP实验。通过金相显微镜观察到4 h的抛光过程中,单晶片表面逐渐平坦...
关键词：氧化镓 化学机械抛光(CMP) 抛光液 平坦化 硅溶胶 
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