马迎姿

作品数:2被引量:8H指数:1
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供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
发文主题:粗糙度表面粗糙度CMP化学机械抛光磨料更多>>
发文领域:电子电信更多>>
发文期刊:《半导体技术》更多>>
所获基金:天津市自然科学基金河北省自然科学基金国家科技重大专项更多>>
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300mm铜膜低压低磨料CMP表面粗糙度的研究被引量:7
《半导体技术》2011年第11期836-839,共4页田雨 王胜利 刘玉岭 刘效岩 邢少川 马迎姿 
02国家科技重大专项(2009ZX02308);河北省自然科学基金(E2010000077);天津市自然科学基金项目(10JCZDJC15500)
随着集成电路特征尺寸的减小、低k介质的引入及晶圆尺寸的增加,如何保证在低压无磨料条件下完成大尺寸铜互连线平坦化已经成为集成电路制造工艺发展的关键。采用法国Alpsitec公司的E460E抛光机在低压低磨料的条件下,研究了12英寸(1英寸=...
关键词:铜互连线 低磨料 低压 粗糙度 化学机械抛光 
一种用于角度传感器中的仪表放大器被引量:1
《半导体技术》2011年第11期844-847,861,共5页马迎姿 檀柏梅 赵毅强 宋益伟 田雨 
天津市自然科学基金(10ZCKFGX01300)
主要设计了一种用于角度传感器系统中的仪表放大器。为了满足角度传感器系统中对信号频率的要求,需要仪表放大器的带宽足够宽能够达到3.3 MHz。该电路采用标准三运算放大器结构电路,以折叠共源共栅结构的放大器为基础,对共模信号进行抑...
关键词:仪表放大器 角度传感器 共模抑制比 高带宽 折叠共源共栅 
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