纳米压印光刻脱模和模具的研究  

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作  者:毕洪峰 崔岩[1] 张富饶[1] 

机构地区:[1]山东省青岛市青岛理工大学机械工程学院,山东 烟台 266520

出  处:《中国科技期刊数据库 工业A》2015年第8期00124-00124,共1页

摘  要:纳米压印技术在发光二极管具有广泛的应用,针对LED纳米图形化面临的问题,纳米压印的研究是非常重要的。但是目前纳米压印在脱模和模具等关键技术上存在不足,亟待解决,本文针对脱模和模具这两个问题进行初步的研究。

关 键 词:纳米压印 脱模 模具 

分 类 号:TN305.7[电子电信—物理电子学]

 

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