纳米压印

作品数：309被引量：518H指数：10
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原位溶胶-凝胶法制备高折射率紫外光固化纳米压印胶
《常熟理工学院学报》2025年第2期21-25,共5页裘俊伦 胡昕 
高折射率紫外光固化聚合物是制备微纳光学器件的重要材料.在合成低水解速率的聚钛氧烷基础上,通过控制水解速率和表面改性,采用原位溶胶-凝胶法在有机溶剂中制备纳米溶胶.结果表明,该溶胶在常温下可稳定储存6个月以上,折射率最高可达1....
关键词：高折射率 紫外光固化 纳米压印 
IPX7级防水柔性超高分辨量子点发光二极管
《光电子技术》2024年第4期282-288,共7页董志华 林立华 郭太良 李福山 
国家自然科学基金(62075043);福建省自然科学基金项目(青年)(2021J05119)。
采用封装胶/密封脂/封口膜的三重封装策略,柔性超高分辨量子点发光二极管(FUQLED)达到IPX7级防水标准。该FUQLED具备9 072 ppi的分辨率和10.8%的外量子效率(EQE),以及卓越的防水性能。在水下的工作寿命(LT50)超过60 min,即使在36 h的水...
关键词：封装 防水 纳米压印 量子点发光二极管 
光栅干涉式触觉传感器
《传感器与微系统》2024年第10期105-108,112,共5页张春鹏 褚金奎 樊元义 张然 
国家自然科学基金资助项目(52175265,52275281);中央高校基本科研业务费项目(DUT21ZD101,DUT21GF308)。
因光学式触觉传感器有着灵敏度高、抗干扰能力强等优点,提出了一种基于亚波长金属光栅干涉的触觉传感器。首先,基于等效介质理论和薄膜干涉理论对触觉传感器的传感原理进行介绍;接着,通过纳米压印工艺和真空蒸发镀膜工艺在柔性中间聚合...
关键词：触觉传感器 亚波长金属光栅 纳米压印 机械手 
不同工艺参数对生物微流控芯片结构合成的影响
《现代应用物理》2024年第5期134-139,149,共7页张颖 刘盛意 
国家自然科学基金资助项目(12027811)。
本文研究了纳米压印光刻技术在微流控生物芯片制造中替代传统光学光刻技术的可行性。首先探究了V50,V60和V703种不同压印胶胶型及不同转速对压印生物芯片结构的影响,最终选择了浓度较高的V70压印胶在转速为3000 r:·min^(-1)条件下进行...
关键词：纳米压印 生物芯片 ICP刻蚀 工艺参数 微流控芯片 
纳米压印技术的发展前景分析
《现代工业经济和信息化》2024年第9期191-192,195,共3页杨志伟 
2024年度吉林省教育厅科学研究项目“新型自加热复合纳米压印膜的制备及应用”(JJKH20241130KJ)。
随着纳米科技的迅速发展,纳米压印技术作为一种重要的纳米加工手段,正引领着材料科学、电子学和光学等领域的创新。深入探讨纳米压印技术的历史演变、关键原理以及未来发展趋势,旨在全面了解这一技术对各个领域的影响,并展望其在科技进...
关键词：纳米科学 纳米压印 微纳加工 
日本最新成果有望带来光刻机技术新方案
《环球财经》2024年第9期105-109,共5页王维 
2024年7月29日,日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)发布了新研究成果,该校的新竹积1教授提出了一种突破性的EUV光刻技术,有望大幅降低传统技术的复杂度和生产成本。除此之外,日本佳能公司的纳米压印(Nano-imprint)技术也有潜力为光刻机...
关键词：光刻机 纳米压印 日本佳能公司 技术解决方案 日本冲绳 EUV光刻 生产成本 研究成果 
基于紫外纳米压印光刻的生物纳米孔测序MEMS芯片设计
《传感器与微系统》2024年第8期79-82,共4页姜保 侍南 吴炫烨 徐屹峰 
上海市“科技创新行动计划”启明星项目(23QB1405100);科技部重点研发计划项目(2019YFA0707004);科技部重点研发计划项目(SQ2021YFF0700202);上海市白玉兰人才计划浦江项目(23PJ1423400)。
纳米孔测序作为最新一代的基因测序技术,在生物医学和临床应用中起着至关重要的作用。测序系统中的MEMS结构通常采用传统光刻工艺来实现,本文首次运用紫外纳米压印光刻(UV-NIL)工艺来验证实现纳米孔测序系统中的MEMS芯片的可能性。采用...
关键词：纳米孔 基因测序 紫外纳米压印光刻 
负性光刻胶在纳米压印光刻技术的应用前景
《现代工业经济和信息化》2024年第7期135-137,共3页杨志伟 吕薪羽 
吉林工业职业技术学院2023年度教育学会教学类课题“‘互联网+’背景下的高职智能制造技术类数控技术专业教学模式的创新与实践”(23jyy02)的研究成果之一;2024年度吉林省教育厅科学研究项目“新型自加热复合纳米压印膜的制备及应用”(JJKH20241130KJ)。
光刻技术在微纳米制造领域具有关键作用,而负性光刻胶因其低成本、高黏度的特点备受青睐。然而,负性光刻胶的分辨率限制在光刻线宽小于3μm时成为制约其应用的主要问题。结合纳米压印光刻技术的发展,探讨了负性光刻胶在纳米压印光刻领...
关键词：光刻技术 负性光刻胶 纳米压印光刻技术 分辨率限制 微纳米制造 
纳米压印光刻技术在中国半导体领域的应用与挑战被引量：2
《中国科技产业》2024年第6期50-53,共4页杨志伟 
2024年度吉林省教育厅科学研究项目“新型自加热复合纳米压印膜的制备及应用”(JJKH20241130KJ)。
光刻技术作为半导体制造的核心工艺,对提高集成电路(IC)的功能性和复杂性起着至关重要的作用。随着半导体行业对更高分辨率的追求,传统的光刻技术面临着光源波长与成本效益的限制。纳米压印光刻(Nanoimprint lithography,NIL)技术作为...
关键词：纳米压印光刻 光刻机 半导体制造 技术突破 产业进步 
新型复合纳米压印膜结构的研究
《功能材料与器件学报》2024年第3期153-157,共5页杨志伟 Asim Abas 张雪陶 曹元勋 张杰 
2024年度吉林省教育厅科学研究项目“新型自加热复合纳米压印膜的制备及应用”(JJKH20241130KJ);吉林工业职业技术学院2024年度科学研究课题“基于薄膜剥离仿真法进行高质量半导体芯片离子掺杂的研究与开发”(课题编号:24KY12KJY)的研究成果之一
本研究提出了一种新型复合纳米压印膜结构,以三明治结构为基础,采用弹性硅胶将柔性非扩张平面基底包裹。工艺包括在图形基板涂覆液态硅胶并固化,精准放置柔性非扩张平面基底,最后涂覆一层硅胶,形成硅胶压印区/柔性基底/硅胶保护区的三...
关键词：复合纳米压印膜 三明治结构 非扩张平面基底 线宽波动 
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