纳米压印光刻

作品数：48被引量：105H指数：6
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基于紫外纳米压印光刻的生物纳米孔测序MEMS芯片设计
《传感器与微系统》2024年第8期79-82,共4页姜保 侍南 吴炫烨 徐屹峰 
上海市“科技创新行动计划”启明星项目(23QB1405100);科技部重点研发计划项目(2019YFA0707004);科技部重点研发计划项目(SQ2021YFF0700202);上海市白玉兰人才计划浦江项目(23PJ1423400)。
纳米孔测序作为最新一代的基因测序技术,在生物医学和临床应用中起着至关重要的作用。测序系统中的MEMS结构通常采用传统光刻工艺来实现,本文首次运用紫外纳米压印光刻(UV-NIL)工艺来验证实现纳米孔测序系统中的MEMS芯片的可能性。采用...
关键词：纳米孔 基因测序 紫外纳米压印光刻 
负性光刻胶在纳米压印光刻技术的应用前景
《现代工业经济和信息化》2024年第7期135-137,共3页杨志伟 吕薪羽 
吉林工业职业技术学院2023年度教育学会教学类课题“‘互联网+’背景下的高职智能制造技术类数控技术专业教学模式的创新与实践”(23jyy02)的研究成果之一;2024年度吉林省教育厅科学研究项目“新型自加热复合纳米压印膜的制备及应用”(JJKH20241130KJ)。
光刻技术在微纳米制造领域具有关键作用,而负性光刻胶因其低成本、高黏度的特点备受青睐。然而,负性光刻胶的分辨率限制在光刻线宽小于3μm时成为制约其应用的主要问题。结合纳米压印光刻技术的发展,探讨了负性光刻胶在纳米压印光刻领...
关键词：光刻技术 负性光刻胶 纳米压印光刻技术 分辨率限制 微纳米制造 
纳米压印光刻技术在中国半导体领域的应用与挑战被引量：2
《中国科技产业》2024年第6期50-53,共4页杨志伟 
2024年度吉林省教育厅科学研究项目“新型自加热复合纳米压印膜的制备及应用”(JJKH20241130KJ)。
光刻技术作为半导体制造的核心工艺,对提高集成电路(IC)的功能性和复杂性起着至关重要的作用。随着半导体行业对更高分辨率的追求,传统的光刻技术面临着光源波长与成本效益的限制。纳米压印光刻(Nanoimprint lithography,NIL)技术作为...
关键词：纳米压印光刻 光刻机 半导体制造 技术突破 产业进步 
面向大面积微结构批量化制造的复合压印光刻被引量：4
《光学精密工程》2019年第7期1516-1527,共12页兰红波 刘明杨 郭良乐 许权 
国家自然科学基金资助项目(51775288)
为了解决在大尺寸非平整刚性衬底和易碎衬底上高效低成本批量化制造大面积微纳结构这一难题,提出一种面向大面积微结构批量化制造的复合微纳压印光刻工艺。阐述了复合压印光刻的基本原理和工艺流程,通过实验揭示了主要工艺参数(覆模速...
关键词：复合微纳米压印光刻 大面积纳米压印 复合软模具 非平整衬底 大面积微结构 
大面积纳米压印光刻晶圆级复合软模具制造被引量：9
《光学精密工程》2018年第4期894-905,共12页兰红波 郭良乐 许权 钱垒 
国家自然科学基金资助项目(No.51375250,No.51775288);青岛市创新领军人才资助项目(No.13-CX-18)
为了解决大面积纳米压印所面临的大尺寸晶圆级复合软模具低成本制造的难题,对于当前广泛使用的大尺寸晶圆级双层复合软模具开展了理论分析、数值模拟和制造方法的系统研究。提出并建立了复合软模具脱模过程和气泡缺陷理论模型;利用ABAQU...
关键词：大面积纳米压印 复合软模具 抗粘附 揭开式脱模 晶圆级 
大面积规则排布的AlN纳米柱阵列制备被引量：2
《半导体技术》2017年第9期696-700,716,共6页朱邵歆 陈翔 闫建昌 张韵 王军喜 李晋闽 
国家重点研发计划"战略性先进电子材料"重点专项(2016YFB04000803;2016YFB04000802);国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2014AA032608);国家自然科学基金资助项目(61376090;61376047;61527814;61674147;61204053);北京市科委重大项目课题资助项目(D161100002516002)
采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)方法在2英寸(1英寸=2.54 cm)c面蓝宝石衬底上异质外延厚度1μm、具有原子级平整表面的高质量氮化铝(Al N)外延层。并在此高质量Al N薄膜的基础上开发了基于纳米压印光刻技术、干法刻蚀和湿法腐蚀...
关键词：氮化铝 纳米柱 纳米压印光刻 湿法腐蚀 自上而下法 
紫外纳米压印技术的研究进展被引量：7
《微纳电子技术》2017年第5期347-354,共8页殷敏琪 孙洪文 王海滨 
中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(2015B22514)
传统的紫外纳米压印(UV-NIL)虽然不受曝光波长的限制,但是存在气泡残留、压印不均匀、模具寿命短等问题。为解决这些问题产生了各种新型UV-NIL工艺,针对这些工艺阐述了紫外纳米压印技术工艺要素的最新研究进展,包括模具、光刻胶的材料...
关键词：紫外纳米压印光刻(UV-NIL) 抗蚀剂 热压印光刻(T-NIL) 步进-闪光压印光刻(S-FIL) 卷对卷纳米压印光刻(R2R-NIL) 
下一代光刻技术
《科技与企业》2015年第13期210-210,共1页仲冠丞 
本文从多方面对下一代光刻技术做了介绍和分析,重点描述了纳米压印光刻技术、极紫外光刻技术、无掩模光刻技术、原子光刻技术、电子束光刻技术等的原理、现状和优缺点,并展望了未来数十年的主流光刻技术。
关键词：下一代光刻技术 纳米压印光刻技术 极紫外光刻技术 无掩模光刻技术 原子光刻技术 电子束光刻技术 
欧盟纳米压印光刻技术实现低成本批量生产感应薄膜
《中国科技投资》2015年第4期13-14,共2页
纳米结构传感器阵列（NSA）．以其在单一检测装置有效检测样品中分子或分子一部分的大面积多参数传感优势，而在制药业、环保等其它行业得到广泛应用。但直到目前，其实验室规模小批量生产导致相对较高的制造成本，一定程度上限制了新...
关键词：小批量生产 光刻技术 纳米结构 制造成本 欧盟 薄膜 感应 检测装置 
欧盟纳米压印光刻技术实现感应薄膜低成本量产
《军民两用技术与产品》2015年第1期34-34,共1页
欧盟第七研发框架计划提供490万欧元资助，总研发投入690万欧元，由芬兰、英国、德国、荷兰、奥地利和瑞士等6个国家的9家企业联合科技界组成的欧洲PHOTOSENS研发团队，利用最先进的纳米压印光刻技术，整合基底纳米功能冲压工艺和卷到...
关键词：纳米压印 光刻技术 低成本 欧盟 薄膜 感应 传感器阵列 框架计划 
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