光刻机

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一台薄膜沉积设备,需要哪些陶瓷部件?
《中国粉体工业》2025年第1期55-56,共2页
半导体设备可分为前道设备(晶圆制造)和后道设备(封装与测试)两大类。前道设备投资量占总设备的80%以上,刻蚀设备、薄膜沉积设备和光刻机分别占前道设备价值量的22%、22%和17%,是半导体前道生产工艺中的三大核心设备,决定了芯片制造工...
关键词：半导体设备 晶圆制造 刻蚀设备 光刻机 薄膜沉积 封装与测试 芯片制造工艺 价值量 
政策驱动下中国光刻机技术多元耦合网络涌现机理
《系统管理学报》2025年第1期152-167,共16页郭本海 顾浩然 龙卓茜 安文龙 
国家自然科学基金资助项目(72474203,72074200,72201133);浙江省基本科研业务费资助项目(2023R409A047)。
破解光刻机关键核心技术难题、实现自主可控发展,通过政策驱动产业技术多元耦合网络涌现至关重要。结合相关政策文本划分政策驱动模式,初步构建中国光刻机技术多元耦合理论模型,并以相关专利数据为基础,运用复杂网络中知识流动模型以及...
关键词：光刻机技术 政策驱动 多元耦合网络 涌现机理 
隐藏的市场壁垒:科技产品市场中的新竞争范式——以阿斯麦光刻机为例的市场壁垒新表现
《临沂大学学报》2024年第6期34-45,共12页张郁 
2024年法治甘肃省级课题(备案号151)研究成果。
新质生产力飞速发展,在很大程度上改变了人们的生产生活方式,其支撑下的经济社会也会有相应变化。从极紫外光刻机制造商阿斯麦的制造经营模式出发,分析科技产业市场新竞争范式,发现市场上涌现出的技术壁垒、以生产要素为内容的市场壁垒...
关键词：科技产品市场 竞争范式 技术壁垒 市场壁垒 阿斯麦光刻机 
用于光刻机物镜像差补偿的透射式变形镜设计
《压电与声光》2024年第6期995-1000,共6页邹有云 布一帆 杜文杰 邓杰 马剑强 
国家自然科学基金资助项目(52475109)。
针对深紫外光刻机物镜工作一段时间后存在的低阶像差问题,提出了一种大口径、小变形量、高精度的透射式变形镜结构。通过有限元对变形镜的校正性能进行仿真,确定了致动器数目、玻璃厚度、内外环的宽度。仿真结果表明,重构Z3-Z9项Zernik...
关键词：DUV光刻机物镜 变形镜 像差校正 
HBM产业链及投资机会梳理
《股市动态分析》2024年第24期9-11,共3页无 
HBM产业链主要涵盖上游的材料和设备厂商,中游的IDM厂商,下游的CPU/GPU/TPU等厂商。上游设备商主要提供生产HBM所需的原材料和设备,如硅晶圆、光刻机、刻蚀机等;中游制造商则负责将原材料加工成HBM芯片,包括晶圆制造、切割、封装等环节...
关键词：固态硬盘 数据中心 晶圆制造 原材料加工 光刻机 HBM 产业链 应用领域 
基于参数曲面的硅片形貌图建立方法
《光学学报》2024年第21期137-145,共9页武志鹏 齐月静 王丹 徐天伟 周昕 
国家科技重大专项(2017ZX02101006-003)。
针对双工件台光刻机测量位硅片形貌测量问题,提出一种基于参数曲面的硅片形貌建立方法。对焦传感器用于测量硅片表面高度值,基于三角测量和光学差分原理设计,可实现纳米级的测量精度。静态曝光方法建立的形貌图在Die内部不具备连续性,...
关键词：硅片形貌图 参数曲面 对焦传感器 工件台 光刻机 
阿斯麦ASML的“搬家”风波
《宁波经济（财经视点）》2024年第11期47-48,共2页一凡 
在全球半导体产业的版图上,阿斯麦(ASML)这个名字无疑是举足轻重的。作为全球光刻机行业的绝对霸主,ASML掌握着极紫外光刻机(EUV)的核心技术,其产品在市场上供不应求,连台积电、三星这样的行业巨头都需排队等候。然而,近期这家被誉为“...
关键词：光刻机 半导体产业 半导体行业 阿斯 核心技术 三星 排队等候 搬家 
光刻工艺技术分析及实验教学管理
《化学工程与装备》2024年第11期172-174,139,共4页张晓欣 赵启林 
围绕光刻工艺的技术特点,重点介绍了该工艺的实现流程,以及与光刻工艺相关的设备、原材料及重要参数,旨在用理论与实验相结合,使学生更容易理解该工艺每一个步骤的原理与作用。根据设备管理和实验教学经验,探讨了实验安全注意事项及实...
关键词：光刻 光刻机 实验教学 工艺流程 实验安全 
光刻机自由照明用微反射镜阵列设计
《中国激光》2024年第22期43-50,共8页张敬巍 胡敬佩 孙梦婕 胡家豪 曾爱军 黄惠杰 
上海市集成电路科技专项支撑(220501110600)。
光源掩模联合优化是28 nm及以下节点浸没式光刻机提高光刻系统分辨率的关键技术,自由照明系统中的微反射镜阵列是确保该技术实现的核心部件。提出了一种单蛇形梁微反射镜结构,其省去了外部可动框架配置,仅在两个固定电极的驱动下即能实...
关键词：光刻机系统 自由照明系统 微反射镜阵列 单蛇形梁微反射镜 
专利视角看光刻机技术应用
《中国科技信息》2024年第19期42-44,共3页程小梅 尹春梅 
光刻机是半导体制造过程中的核心设备之一,它包括光源、掩模版、光学系统、工件台等关键组件。光刻机的设计和制造难度极高,需要精确控制光源波长、光学系统的数值孔径、工件台的定位精度等,以实现高精度的图案转移。随着技术的发展,光...
关键词：光刻机 微电子芯片 半导体制造 极紫外光刻 光刻技术 数值孔径 工件台 集成电路生产 
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