光刻

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全溶液法制备PAA/SU-8双层电介质OFET及其性能
《半导体技术》2025年第5期449-458,共10页江紫玲 朱睿 张婕 
有机场效应晶体管(OFET)因其低成本和优异的可兼容特性,是柔性电子领域的重要器件。通过构建聚丙烯酸(PAA)/SU-8双层介电结构,结合全溶液法制备了基于6,13-双(三异丙基硅烷基乙炔基)(TIPS)-并五苯半导体层的OFET。通过原子力显微镜(AFM...
关键词：有机场效应晶体管(OFET) 双层介电结构 聚丙烯酸(PAA)聚电解质 SU-8光刻胶 溶液法 6 13-双(三异丙基硅烷基乙炔基)(TIPS)-并五苯 
基于田口方法的CMOS栅极掩膜层清洗工艺优化研究
《微纳电子技术》2025年第5期87-93,共7页吴国才 张玉龙 孙瑞 时建成 杨彪 
国家自然科学基金青年基金(61805162)。
返工清洗互补金属氧化物半导体(CMOS)晶体管栅极上的光刻胶掩膜层,不合理的工艺将会导致栅极膜层电阻的偏高。制备多晶硅/WSi2结构的CMOS栅极膜层,然后对栅极进行光刻图形化处理并明确光刻胶清洗的机理。通过引入田口方法组合清洗工艺...
关键词：互补金属氧化物半导体(CMOS)晶体管栅极 光刻胶清洗 田口方法 工艺优化 电阻差 
基于同步性能综合指标的超精密运动台迭代学习控制
《控制与决策》2025年第4期1257-1266,共10页周昕 齐月静 武志鹏 齐威 李爱琳 
国家科技重大专项项目(2018ZX02101005)。
超精密运动台是光刻机的关键组成部分,包括工件台和掩模台,二者的同步性能直接影响光刻机的套刻精度和关键尺寸均匀性.针对工件台和掩模台的同步控制问题,提出一种基于同步性能综合指标的迭代学习控制(MASD-ILC),能够减小同步误差,且有...
关键词：光刻机 工件台 掩模台 迭代学习 同步控制 同步性能综合指标 
超大数值孔径深紫外投影光刻空间像的偏振响应分析
《成都工业学院学报》2025年第2期14-19,共6页彭仁举 
成都工业学院科研项目(2024RC017)。
65 nm以下工艺节点的投影物镜具有超大数值孔径,且处于深紫外工作波段,导致不同偏振态所对应的投影光刻空间像之间存在显著的差异。将s和p偏振所对应空间像之间的差异定义为偏振响应,以十字线和竖线条阵列为研究对象,利用矢量衍射投影...
关键词：偏振响应 超大数值孔径 深紫外 投影光刻 
专利引证视角下技术轨道演化及核心技术识别——以“卡脖子”技术浸没式ArF光刻胶为例
《江苏科技信息》2025年第7期55-59,66,共6页许思娴 
江苏高校哲学社会科学研究项目一般项目,项目名称:基于主路径分析的专利技术轨道动态演化及核心技术识别研究,项目编号:2022SJYB0223;江苏省科技资源(工程技术文献)统筹服务平台自主研究课题,项目名称:高端半导体光刻胶领域核心技术识别研究;项目编号:TC2023C004。
专利是反映技术创新的重要手段,专利引证关系能够客观反映技术的关联发展,帮助挖掘技术轨道的动态演变。文章以“卡脖子”技术浸没式ArF光刻胶技术为研究对象,根据专利族之间的引证数据构建浸没式ArF光刻胶技术引文网络进行网络特征和...
关键词：专利引证网络 技术轨道 技术主路径 光刻胶 
侧链型聚酰亚胺碱溶性树脂的合成及其在AMOLED黑色像素定义层光刻胶的应用研究
《化学与生物工程》2025年第4期8-11,31,共5页张若青 宋昌辉 王海涛 项坤 邹菁 
2023年工信部高质量发展专项(TC230A076-18);国家自然科学基金项目(21902108)。
使用黑色像素定义层材料、在AMOLED薄膜封装上覆盖彩色滤光片的去偏光片技术(COE)具有高透过率、轻薄化、低成本的工艺特点,是当前最先进的折叠屏AMOLED技术方案。合成了2种侧链型聚酰亚胺碱溶性树脂HEA-PSMA和GMA-PSMA,分别制作成黑色...
关键词：侧链型聚酰亚胺 像素定义层(PDL) 黑色光刻胶 AMOLED 柔性显示技术 
新型噻蒽硫鎓盐类光致产酸剂的合成及性能
《青岛科技大学学报(自然科学版)》2025年第2期38-45,共8页张真超 金岩 冯柏成 
山东省自然科学基金项目(ZR2020MB132).
以噻蒽和三氟甲烷磺酸酐为原料,合成了一种新型的硫鎓盐类光致产酸剂5-三氟甲基-噻蒽三氟甲磺酸盐,并通过^(1)H NMR、^(13)C NMR、^(19)F NMR和熔点对产品结构进行了表征。对该光致产酸剂的溶解性、热稳定性、紫外吸收、分解和产酸量子...
关键词：硫鎓盐 噻蒽 光致产酸剂 产酸性能 光刻胶 
基于AZ6130光刻胶掩膜的氮化硅ICP刻蚀工艺
《材料热处理学报》2025年第3期208-214,共7页白敬元 杨洪广 占勤 窦志昂 张志坤 
中核集团英才基金(219601)。
使用AZ6130光刻胶作为等离子增强化学气相沉积(PECVD)氮化硅的感应耦合等离子体(ICP)刻蚀掩膜,分析了前后烘温度、匀胶转速及曝光剂量对光刻胶侧壁形貌的影响,探究了ICP功率对光刻胶掩膜及氮化硅刻蚀形貌的影响。结果表明:当前烘温度为9...
关键词：光刻 氮化硅 感应耦合等离子体(ICP)刻蚀 
聚酰亚胺/锆自支撑薄膜激光制备和性能研究
《淮北师范大学学报(自然科学版)》2025年第1期26-31,共6页刘仁臣 王永伟 
安徽省高校自然科学研究重点项目(KJ2021A1200)。
探讨超薄聚酰亚胺(PI)/锆(Zr)自支撑滤光膜的制备和性能。以稀盐酸为腐蚀剂,对涂于氧化锌衬底上的聚酰胺酸薄膜进行剥离,经热亚胺化转化为聚酰亚胺薄膜,脱膜后得到厚度为600 nm自支撑PI薄膜。再在该自支撑PI薄膜上沉积一层200 nm的锆膜...
关键词：聚酰亚胺 锆 自支撑 激光刻蚀 
拼接原子光刻光栅衍射性能研究
《红外与激光工程》2025年第3期228-237,共10页吴益泽 薛栋柏 肖光旭 沈俊宇 邓晓 孔明 
国家重点研发计划项目(2022YFF0607600,2022YFF0605502);国家自然科学基金项目(62075165);上海市科学技术委员会青年科技启明星项目(23QA1409400);上海市在线检测与控制技术重点实验室开放基金项目(ZX2020101)。
光栅干涉仪作为一种精密位移测量手段,具备高精度、高分辨力以及强抗干扰能力等优势。光栅作为干涉仪的测量基准,其周期准确性与位移测量结果的精度直接相关。基于原子光刻沉积技术的原子光刻光栅周期直接溯源至铬原子跃迁频率,将其运...
关键词：拼接原子光刻光栅 峰谷高度 衍射效率 严格耦合波理论 
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