电子束光刻技术

作品数：30被引量：46H指数：4
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高精度电子束光刻技术在微纳加工中的应用
《中国周刊》2020年第4期0187-0187,共1页刘昌明 
本文主要针对电子束光刻系统的主要原理以及微纳加工领域的应用来进行分析和研究。对于光刻系统的工作原理来进行阐 述。针对电子束的光刻关键工艺的优化,以及邻近效应对于图形的影响和相应的解决措施来进行论述,由于电子束光刻在科研...
关键词：电子束光刻 微纳加工 纳米电子器件 
德国研究人员利用光刻技术首次绘出银纳米结构
《军民两用技术与产品》2017年第17期33-33,共1页
德国柏林亥尔姆茨材料和能源研究中心与德国联邦材料测试与研究机构合作，首次在银材料基底上绘制出了光刻纳米结构，为未来光计算机数据处理、新型电子器件制造开辟了新的途径。电子束光刻技术能够在材料表面制作精细结构图样，已成功...
关键词：电子束光刻技术 纳米结构 研究人员 德国 计算机数据处理 利用 材料测试 银 
高精度电子束光刻技术在微纳加工中的应用被引量：14
《电子与封装》2017年第5期28-32,36,共6页胡超 王兴平 尤春 孙锋 
对电子束光刻系统的原理以及在微纳加工领域的应用进行了讨论。首先对光刻系统的工作原理进行了阐述。然后讨论了电子束光刻的关键工艺,如光胶的选择、剥离工艺的优化以及邻近效应对图形的影响及修正方法。由于电子束光刻在科研领域展...
关键词：电子束光刻 微纳加工 纳米电子器件 
简单低成本制造高性能挠性晶体管
《印制电路信息》2016年第6期71-71,共1页
威斯康星大学麦迪逊分校的工程师们开发了一种简易、便宜地在挠性塑料上成卷制造高性能晶体管的方法。此方法是在聚酯膜上覆有单晶硅和掺杂剂合成材料，用纳米压印工艺形成晶体管电路图形。可重复使用的纳米压印模具是用一种称为电子束...
关键词：低成本制造 晶体管 挠性 性能 电子束光刻技术 威斯康星大学 可重复使用 光致抗蚀剂 
本期摘要
《传感器世界》2016年第3期4-5,共2页
电子束光刻三维微结构的模拟仿真 注：江苏省前瞻性联合研究项目（No．BY2015070-06） 作者：鲍先同,幸研 单位：东南大学,江苏南京211189 摘要：利用电子束光刻技术，在正性光阻上加工三维微结构。为了模拟预测微结构的表面轮廓,...
关键词：摘要 电子束光刻技术 三维微结构 密度分布函数 函数方法 模拟仿真 东南大学 江苏南京 
电子束光刻技术与ICP刻蚀技术的研究
《电子技术与软件工程》2015年第24期126-126,共1页王迪 王国政 
在微电子集成领域当中,电子束光刻技术和ICP刻蚀技术是十分重要的技术,能够通过一系列的生产步骤,去除晶圆表面薄膜的特定部分,并在晶圆表面留下微圆形结构的薄膜。光刻与刻蚀技术的应用,对于微电子集成的生产和优化具有重要的作用,因...
关键词：电子束光刻技术 ICP刻蚀技术 研究 
下一代光刻技术
《科技与企业》2015年第13期210-210,共1页仲冠丞 
本文从多方面对下一代光刻技术做了介绍和分析,重点描述了纳米压印光刻技术、极紫外光刻技术、无掩模光刻技术、原子光刻技术、电子束光刻技术等的原理、现状和优缺点,并展望了未来数十年的主流光刻技术。
关键词：下一代光刻技术 纳米压印光刻技术 极紫外光刻技术 无掩模光刻技术 原子光刻技术 电子束光刻技术 
美开发无缺陷半导体纳米晶体薄膜可用于新领域
《电子产品可靠性与环境试验》2013年第4期58-58,共1页
据报道．美国麻省理工学院的研究人员利用电子束光刻技术和剥离过程开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜。这是一种很有前途的新材料．可广泛地应用并开辟潜在的重点研究领域。相关报告发表在《纳米快报》杂志的网络版上。
关键词：晶体薄膜 过程开发 半导体 无缺陷 纳米 美国麻省理工学院 电子束光刻技术 研究人员 
美开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜
《电子工业专用设备》2012年第8期66-66,共1页
美国麻省理工学院的研究人员利用电子束光刻技术和剥离过程开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜。这是一种很有前途的新材料,可广泛应用并开辟潜在的重点研究领域。
关键词：晶体薄膜 过程开发 半导体 无缺陷 纳米 美国麻省理工学院 电子束光刻技术 研究人员 
美开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜
《新材料产业》2012年第12期69-69,共1页
美国麻省理工学院的研究人员利用电子束光刻技术和剥离过程开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜。这是一种很有前途的新材料，可广泛应用并开辟潜在的重点研究领域。
关键词：晶体薄膜 过程开发 半导体 无缺陷 纳米 美国麻省理工学院 电子束光刻技术 研究人员 
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