电子束光刻技术与ICP刻蚀技术的研究  

作　　者：王迪[1] 王国政[1] 

机构地区：[1]长春理工大学,吉林省长春市130000

出　　处：《电子技术与软件工程》2015年第24期126-126,共1页ELECTRONIC TECHNOLOGY & SOFTWARE ENGINEERING

摘　　要：在微电子集成领域当中,电子束光刻技术和ICP刻蚀技术是十分重要的技术,能够通过一系列的生产步骤,去除晶圆表面薄膜的特定部分,并在晶圆表面留下微圆形结构的薄膜。光刻与刻蚀技术的应用,对于微电子集成的生产和优化具有重要的作用,因而得到了十分广泛的应用。基于此,本文对电子束光刻技术和ICP刻蚀技术进行了研究,以期能够为这一领域的发展做出贡献。

关 键 词：电子束光刻技术 ICP刻蚀技术 研究 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]