本期摘要  

出　　处：《传感器世界》2016年第3期4-5,共2页Sensor World

摘　　要：电子束光刻三维微结构的模拟仿真 注：江苏省前瞻性联合研究项目（No．BY2015070-06） 作者：鲍先同,幸研 单位：东南大学,江苏南京211189 摘要：利用电子束光刻技术，在正性光阻上加工三维微结构。为了模拟预测微结构的表面轮廓,需要建立电子束光刻模型。通常有两种方法建立能量沉积模型,获得能量密度分布函数,分别是随机函数方法和近似函数方法。对能量密度分布函数作线性处理,设计加工三维微结构。

关 键 词：摘要 电子束光刻技术 三维微结构 密度分布函数 函数方法 模拟仿真 东南大学 江苏南京 

分 类 号：TN32[电子电信—物理电子学]