美开发无缺陷半导体纳米晶体薄膜可用于新领域  

出　　处：《电子产品可靠性与环境试验》2013年第4期58-58,共1页Electronic Product Reliability and Environmental Testing

摘　　要：据报道．美国麻省理工学院的研究人员利用电子束光刻技术和剥离过程开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜。这是一种很有前途的新材料．可广泛地应用并开辟潜在的重点研究领域。相关报告发表在《纳米快报》杂志的网络版上。

关 键 词：晶体薄膜 过程开发 半导体 无缺陷 纳米 美国麻省理工学院 电子束光刻技术 研究人员 

分 类 号：TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]