抗蚀剂

作品数：387被引量：378H指数：8
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微光刻材料标准化研究
《信息技术与标准化》2023年第12期85-88,共4页张子晴 王一刚 
为充分发挥好标准支撑、规范、引领产业发展的作用,开展微光刻材料标准的梳理分析工作,对国内现有微光刻材料标准按基础通用、产品、方法进行分类,详细介绍相关标准的具体内容、使用范围等方面,并与国外相关标准进行对比,综合分析我国...
关键词：微光刻材料 掩模 抗蚀剂 标准化 
马来酰亚胺-丙烯酸酯共聚物的制备及在热纳米压印抗蚀剂的应用被引量：1
《高分子材料科学与工程》2023年第6期125-130,共6页韦南君 赵晶 蔡雅娟 杨旭 刘洋 孙义兴 李一博 杨子昊 吴雅各 岳婷 盖景刚 
国家自然科学基金资助项目(51473097,51003067);四川省科技计划(2019YJ0107);高分子材料工程国家重点实验室自主课题(sklpme2022-2-02)。
马来酰亚胺与丙烯酸酯通过自由基溶液聚合制备了马来酰亚胺-丙烯酸酯共聚物(P(AA-MI-AHA))。根据凝胶渗透色谱,共聚物的多分散系数低于2,表现出窄的分子量分布特点;根据热失重分析和差示扫描量热分析,聚合物热分解温度高于140℃,玻璃化...
关键词：丙烯酸酯 马来酰亚胺 纳米压印 抗蚀剂 分辨率 
光致抗蚀剂标准需求和发展建议被引量：1
《标准科学》2023年第S01期70-75,共6页曹可慰 吴怡然 赵俊莎 李其聪 
光致抗蚀剂,也称光刻胶,应用于集成电路等半导体制造中的光刻工艺。光致抗蚀剂在光刻工艺中起到感光和抗刻蚀作用,主要成分有树脂、光引发剂、溶剂和添加剂。光致抗蚀剂是全球技术与贸易竞争的焦点,也是我国产业链供应链的薄弱环节。标...
关键词：光致抗蚀剂 光引发剂 标准 标准体系 
文献摘要(249)
《印制电路信息》2022年第10期68-68,共1页龚永林 
现代化的喷墨技术Update on Inkjet Technologies喷墨是印刷电子产品中使用的技术之一,工业喷墨打印机有四个重要元素:打印头、油墨、打印模块油墨制备及固化、CAM(计算机辅助制造)数据准备和基板定位系统。打印头是喷墨打印机的核心,...
关键词：喷墨打印机 打印模块 喷墨技术 数据准备 打印头 文献摘要 喷墨头 抗蚀剂 
混合抗蚀剂法制备纳米球型SERS基底被引量：5
《光学学报》2022年第15期186-195,共10页周一轩 杨婧 徐陶然 乔治 牟达 陈佩佩 褚卫国 
北京市自然科学基金面上项目(4202083);国家重点研发计划项目(2017YFA0207104);北京市科技新星计划项目(Z191100001119138)。
报道了一种利用混合抗蚀剂的一步电子束曝光制备表面增强拉曼散射(SERS)基底的新方法。基于氢倍半硅氧烷(HSQ)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)电子束抗蚀剂的混合产生相分离形成纳米球体的现象,并利用合适剂量(2000μC/cm^(2))电子束曝光、固...
关键词：表面光学 表面增强拉曼散射(SERS) 电子束曝光 痕量检测 三聚氰胺 
基于多层抗蚀剂的GaAs基微纳光栅深刻蚀工艺被引量：5
《中国激光》2022年第3期163-170,共8页杨晶晶 范杰 马晓辉 邹永刚 王琦琦 
吉林省科技发展计划项目(20190302052GX)。
采用电子束光刻技术制备出了深刻蚀的GaAs基微纳光栅。针对电子束曝光过程中存在的由邻近效应引起的光栅结构图形失真和变形的问题,本课题组采用厚度较薄的PMMA A4抗蚀剂和SiO_(2)薄膜形成多层抗蚀剂来减小邻近效应,同时将SiO_(2)薄膜...
关键词：光栅 电子束光刻 邻近效应 干法刻蚀 长草现象 
2022年中国电子化学品行业市场规模将持续增长
《中国战略新兴产业》2021年第12期13-18,共6页童锡来 
电子化学品是电子工业中的关键性基础化工材料,电子工业的发展,要求聰子化学品与之同步发展,不断地更新换代,以适应其在技术方面不断推陈出新的需要。按照统计分类,电子化学品一般根据用途分为基板、光致抗蚀剂(国内称光刻胶)、保护气...
关键词：电子化学品 光致抗蚀剂 持续增长 化工材料 辅助材料 统计分类 光刻胶 腐蚀剂 
国内外光刻胶发展及应用探讨被引量：4
《新材料产业》2021年第5期33-35,共3页崔杰 翟博涛 
光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂为主要成分的一种对光特别敏感的混合液体,别名为“光致抗蚀剂”。光刻胶对光非常敏感,透过光线,其化学特性就会发生变化,因此把光刻胶涂敷在硅基片上,再经过曝光、显影、刻蚀等工艺,就可以将设计好的...
关键词：光刻胶 光致抗蚀剂 硅基片 感光树脂 混合液体 增感剂 化学特性 图形 
微细阵列结构电子束加工试验研究
《电加工与模具》2021年第3期61-65,共5页颜泽林 马志兵 汪炜 
基于电子束曝光基本理论和工艺原理,以涂覆有PMMA抗蚀剂的石英玻璃为研究对象,采用电子束曝光制备微细阵列结构,研究不同工艺参数对曝光微细阵列孔和阵列槽结构的影响。结果表明,在PMMA薄膜厚度250 nm、曝光剂量400 pAs/cm^(2)、显影时...
关键词：电子束曝光 抗蚀剂 工艺参数 阵列微孔 阵列微槽 
一种UVA型光产酸剂
《广东化工》2021年第8期18-20,共3页廖恒 
本文合成了一种以硫杂蒽酮为基核的光产酸剂,该光产酸剂对UVA段紫外光敏感,光解可以产生超强酸,且在365、385、395 nm LED光源下具有良好的光产酸效率,光产酸量子产率Φa为0.10~0.11。
关键词：光产酸剂 UVA 超强酸 光致抗蚀剂 LED 
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