国内外光刻胶发展及应用探讨  

作　　者：崔杰 翟博涛 

机构地区：[1]阳煤集团纳谷(山西)气凝胶科创城管理有限责任公司研发中心

出　　处：《新材料产业》2021年第5期33-35,共3页Advanced Materials Industry

摘　　要：光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂为主要成分的一种对光特别敏感的混合液体,别名为“光致抗蚀剂”。光刻胶对光非常敏感,透过光线,其化学特性就会发生变化,因此把光刻胶涂敷在硅基片上,再经过曝光、显影、刻蚀等工艺,就可以将设计好的图形复刻到硅基片上,因此光刻胶成为了光电信息产业中图形复刻加工技术中的关键性材料,在其行业内得到了广泛的应用。

关 键 词：光刻胶 光致抗蚀剂 硅基片 感光树脂 混合液体 增感剂 化学特性 图形 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]