不同高度的无序纳米结构减反、增透、去雾性能的研究  

作　　者：邓萌萌 周亚亚 谢雅晴 葛海雄[2,3] 

机构地区：[1]璞璘科技(杭州)有限公司,浙江杭州310000 [2]南京大学工程与应用科学学院材料科学与工程系先进微结构协同创新中心江苏省人工功能材料重点实验室,江苏南京210093 [3]固体微结构国家重点实验室,江苏南京210093

出　　处：《中国科技期刊数据库 工业A》2023年第6期173-176,共4页

摘　　要：本研究采用紫外纳米压印和反应离子束刻蚀技术(ICP-RIE),在石英玻璃基底(SiO2)上制备了柱径一致、高度不同的无序纳米柱结构,并且工艺具有较高的重复性。对表面不同高度的无序亚波长结构进行了光学性能分析,结合波动光学理论进行了机理分析。在刻蚀过程中,随着刻蚀时间的增加,纳米柱顶部出现横向刻蚀越明显。采用UV-3600紫外可见光光度计等表征手段测量不同高度纳米柱表面的减反增透性能。结果显示,随着无序纳米柱高度的增加,所制备样品的减反增透性能降低,表面雾度逐渐增强。其中,高度为75 nm的无序纳米柱表面展现出良好的减反增透效果,并且整体平均雾度小于1.2%。该研究为制备高透石英提供了可行的途径。

关 键 词：纳米压印 无序纳米柱 减反增透 雾度 

分 类 号：J527[艺术—艺术设计]