射频溅射法镀LD腔面光学薄膜的工艺研究  

Study on Facet Coating of Semiconductor Laser With RF Sputtering

作　　者：邹德恕[1] 徐晨[1] 鲁鹏程[1] 杜金玉[1] 崔碧峰[1] 舒雄文[1] 刘莹[1] 沈光地[1] 

机构地区：[1]北京工业大学北京光电子实验室,北京100022

出　　处：《半导体光电》2003年第6期451-453,共3页Semiconductor Optoelectronics

基　　金：国家"973"计划资助项目(G20000683-02);国家自然科学基金重点资助项目 (6988960 1 );北京市科委支持项目(992 70 60 1 )

摘　　要：　介绍了用普通多靶射频溅射台镀半导体激光器腔面光学膜的工艺方法,给出了实验的工艺条件、采用的光学膜的材料以及具体的工艺参数,讨论了此方法镀光学膜的结果以及优点。Experiments of facet coating of semiconductor laser with RF sputtering were carried out.The process technology and film materials used are reported, followed by discussion on test results and the merits of this technology.

关 键 词：射频溅射 增透膜 高反射膜 量子效率 

分 类 号：TN248.4[电子电信—物理电子学]