基于硅各向异性腐蚀的平面沟道无阀微泵研究  

Valveless Micropump with Planar Channel Based on Silicon Anisotropic Etching

作　　者：张国威[1] 刘晓为[1] 陈伟平[1] 倪鹤南[1] 王喜莲[1] 

机构地区：[1]哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001 哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001 哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001 哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001 哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001

出　　处：《中国机械工程》2005年第z1期119-121,共3页China Mechanical Engineering

基　　金：国家自然科学基金资助项目(60276038)

摘　　要：依据扩散口/喷嘴理论,设计了不同几何尺寸无阀微泵的扩散口/喷嘴光刻掩模版图,采用硅平面工艺、各向异性腐蚀及削角补偿等技术,制作出了多种无阀微泵.对无阀微泵泵压及流量进行了实验研究,结果表明:泵压与流量均呈现反比关系;扩散口/喷嘴的张角为8°时微泵效率最高;扩散口/喷嘴长度为2500μm、扩散口/喷嘴的窄口宽度为150μm、腐蚀深度为150μm时,无阀微泵的最大泵压和流量分别为14.9kPa和558μL/min.

关 键 词：扩散口 喷嘴 泵压 无阀微泵 

分 类 号：TH137.51[机械工程—机械制造及自动化]