低压化学气相淀积的模型及模拟  

Low Pressure Chemical-vapor-deposition Model and Simulation

作　　者：徐大为[1] 李伟华[1] 周再发[1] 

机构地区：[1]东南大学MEMS教育部重点实验室,南京,210096 东南大学MEMS教育部重点实验室,南京,210096 东南大学MEMS教育部重点实验室,南京,210096

出　　处：《中国机械工程》2005年第z1期207-209,共3页China Mechanical Engineering

基　　金：国家杰出青年科学基金资助项目(50325519)

摘　　要：通过对几个淀积工艺模型的讨论,分析了气体在低压下的传输机理及各部分反应对淀积结果的贡献,在此基础上提出了低压化学气象淀积(LPCVD)的二维淀积模型.这个模型在结构上比较简单,计算方便,模型考虑了中间产物的作用,能得到与实际情况较为符合的结构.最后使用C语言编程,采用线算法将模型变为程序,计算过程较为简单,计算速度较快.

关 键 词：低压化学气象沉积(LPCVD) 淀积模拟 计算机模拟 线算法 

分 类 号：TN:405[电子电信]