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机构地区:[1]上海大学纳米中心,上海200444
出 处:《微细加工技术》2008年第1期45-48,共4页Microfabrication Technology
基 金:国家自然科学基金资助项目(50575131);国家973计划项目资助(2003CB716201);上海市自然科学基金资助项目(07ZR14039);上海市教委第五期重点学科资助项目(J50102)
摘 要:在化学机械抛光(CMP)中,为了提高氧化铝磨料的分散稳定性及减少抛光划痕,通过硅烷偶联剂在其表面接枝了聚甲基丙烯酸(PMAA)制得了一种新型的复合粒子(-αAl2O3-g-PMAA)。SEM结果表明,制得的复合粒子分散稳定性明显提高。进而用SPEEDFAM-16B-4M抛光机研究了其在玻璃基片中的抛光性能。抛光后玻璃基片表面的ZYGO表面形貌仪和AFM分析结果表明,在相同的抛光条件下,与纯Al2O3磨料相比,所制得的复合粒子表现出了低的表面粗糙度及划痕。该复合粒子可望用做新型CMP磨粒。In order to enhance the dispersion stability of alumina abrasives and prevent agglomerations in chemical mechanical polishing(CMP) slurry.α-alumina-g-polymethacrylic acid composite abrasives(α-Al2O3-g-PMAA) was prepared by grafting polymerization.Scanning electron microscope(SEM) analysis indicates that the prepared α-Al2O3-g-PMAA abrasives have better dispersion stability than pure α-Al2O3 abrasives.Further the CMP performances of the α-Al2O3-g-PMAA composite abrasives on glass substrate were investigated ...
关 键 词:氧化铝/聚甲基丙烯酸复合粒子 化学机械抛光 玻璃基片
分 类 号:TB381[一般工业技术—材料科学与工程]
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