多靶连续卷绕镀膜机溅射室布气均匀性研究  

Study of Pressure Distribution in Sputtering Chamber of Multi-Source Roll Coater

作　　者：冯煜东 王艺 王志民 速小梅 赵慨 

机构地区：[1]兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室,兰州,730000 兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室,兰州,730000 兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室,兰州,730000 兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室,兰州,730000 兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室,兰州,730000

出　　处：《真空科学与技术学报》2006年第z1期40-43,共4页Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

摘　　要：大面积柔性基底上连续磁控卷绕溅射镀膜技术高速发展.本文主要描述了该类设备在镀膜均匀性方面的不足和关键因素,并着重通过理论计算分析了抽气结构对溅射室压力均匀性的影响,最后提出了优化的充气与抽气管道设计.通过试验证明所设计的可调整的抽气结构能够很好满足镀膜均匀性要求.

关 键 词：磁控溅射 质量流量 流导 抽速 分子流 粘滞流 

分 类 号：TB43[一般工业技术]