显像管残余气体分析及离子轰击研究  

Residual Gasses Analysis and Ion Bombardment Study of Color Picture Ttube

作　　者：张晓兵[1] 蒋峻[1] 毛福明[1] 雷威[1] 

机构地区：[1]东南大学电子工程系,南京,210096 华飞彩色显示系统有限公司电子枪厂,南京,210028 东南大学电子工程系,南京,210096 东南大学电子工程系,南京,210096

出　　处：《真空科学与技术学报》2005年第z1期115-117,共3页Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

基　　金：国家973计划(No.2003CB314706和No.2003CB314702);新世纪人才计划(NCET-04-0473)

摘　　要：显像管中的残余气体是影响显像管质量和寿命的重要因素,通过四极质谱残余气体分析系统,可以对显像管中的残余气体进行有效的分析,对带消气剂的真空器件,本底要考虑扣除消气剂作用的影响.在此基础上可以进行残余气体离子轰击的计算机模拟研究,并对显像管电子枪进行优化设计.

关 键 词：残余气体 质谱分析 离子轰击 

分 类 号：TQ141.3[化学工程]