磁控溅射方法制备(CoCr/Pt)20纳米多层膜及表征  

Characterization of (CoCr/Pt) 20 Namomultilayers Preparation by Magnetron Sputtring

作　　者：黄阀[1,2] 李宝河[1,3] 杨涛[1] 翟中海[1] 朱逢吾[1] 

机构地区：[1]北京科技大学材料物理与化学系,北京100083 [2]金日成综合大学物理系,朝鲜平壤 [3]北京工商大学数理部,北京100037

出　　处：《Journal of Semiconductors》2005年第z1期65-69,共5页半导体学报（英文版）

基　　金：国家自然科学基金资助项目(批准号:50301002)

摘　　要：采用磁控溅射方法制备了性能优良的以Pt为缓冲层的(CoCr/Pt)20纳米多层膜,研究了溅射气压对(CoCr/Pt)20纳米多层膜的微结构和磁性的影响.结果表明,Ar溅射气压对(CoCr/Pt)20纳米多层膜的微结构、垂直磁各向异性和矫顽力有很大的影响.所有样品的有效各向异性常数Ke.＞0,具有垂直磁各向异性.X射线衍射结果显示,小角衍射峰很锐,样品有良好的周期性层状结构.随着Ar溅射气压增加,样品垂直膜面的矫顽力增加,但样品有效磁各向异性常数减小.原子力显微镜照片显示,随着Ar溅射气压增加,其表面平均晶粒尺寸和粗糙度均增加,这是导致多层膜的垂直矫顽力增加和有效磁各向异性常数减小的因素.

关 键 词：溅射气压 纳米多层膜 垂直磁各向异性 有效磁各向异性常数 

分 类 号：O484.4[理学—固体物理]