检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:周丽萍[1] 季勇[1] 季红[1] 王艾玲[1] 郑鹉[1] 姜宏伟[1]
机构地区:[1]首都师范大学,物理系,北京,100037 首都师范大学,物理系,北京,100037 首都师范大学,物理系,北京,100037 首都师范大学,物理系,北京,100037 首都师范大学,物理系,北京,100037 首都师范大学,物理系,北京,100037
出 处:《功能材料》2004年第z1期820-822,825,共4页Journal of Functional Materials
摘 要:用磁控溅射方法制备了以Ta和非磁性(Ni0.81Fe0.19)66Cr34为缓冲层的Ni74Co26薄膜,研究了它们的各向异性磁电阻效应.结果表明:用厚度为4.5nm的非磁性(Ni0.81Fe0.19)66Cr34做缓冲层的Ni74Co26薄膜,其各向异性磁电阻(AMR)值比用10nm的Ta做缓冲层的同样厚度的Ni74Co26薄膜的AMR有较大的提高.比如,当Ni74Co26薄膜的厚度为12.5nm时,AMR值能提高43%.X射线衍射(XRD)研究表明:缓冲层(Ni0.81Fe0.19)66Cr34与磁性层Ni74Co26有非常接近的晶格常数,因此产生了较大的AMR值.
分 类 号:TM271[一般工业技术—材料科学与工程]
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