Pt/Au/p-Si溅射薄膜组织结构特征  

Structure of Pt/Au/p-Si Films prepared by sputtering

作　　者：殷景华[1] 蔡伟[1] 王明光[1] 郑玉峰[1] 赵连城[1] 

机构地区：[1]哈尔滨理工大学,应用科学学院,黑龙江,哈尔滨,150080 哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001 中科院沈阳金属研究所,固体原子像实验室,辽宁,沈阳,110015 哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001 哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001

出　　处：《功能材料》2004年第z1期1068-1070,共3页Journal of Functional Materials

摘　　要：在p-Si衬底上,分别淀积5 nm Au膜和5nmPt膜,形成Pt/Au/p-Si结构,500℃退火后形成硅化物薄膜.采用X射线光电子谱和X射线衍射谱研究薄膜成分和相分布,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察薄膜表面形貌和界面结构.测试结果表明,薄膜中含有PtSi相和Au相,表面较平坦,PtSi相形成层状结构,Au原子聚集成岛状结构.

关 键 词：Pt/Au/p-Si 薄膜 硅化物分布 表面和界面结构 

分 类 号：TN304[电子电信—物理电子学]