等离子体表面处理对YBCO薄膜表面形貌的研究  

Effect of high-density plasma annealing on YBCO film by MOD

作　　者：赵跃[1] 刘敏[1] 董杰[1] 梁锦霞[1] 何嘉[1] 索红利[1] 周美玲[1] 

机构地区：[1]北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022 北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022 北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022 北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022 北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022 北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022 北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

出　　处：《功能材料》2004年第z1期1338-1340,共3页Journal of Functional Materials

基　　金：国家863计划资助项目(2002AA306221)

摘　　要：采用自制的等离子表面处理装置对MOD法制得YBCO薄膜进行表面处理.我们通过控制等离子处理时间,辉光电流,处理温度以及退火的工艺流程,发现YBCO超导薄膜表面成分,表面形貌发生的明显的改变.这种简易快速的方法将对YBCO薄膜表面质量提高起到有效的作用.

关 键 词：等离子表面处理 YBCO MOD 

分 类 号：TM26[一般工业技术—材料科学与工程]