磁控溅射工艺参数对氧化钛薄膜晶体结构的影响  

The effect of magnetron sputtering parameters on crystalline phase of titanium oxide films

作　　者：徐禄祥[1] 冷永祥[1] 黄楠[1] 

机构地区：[1]西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031 西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031 西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031

出　　处：《功能材料》2004年第z1期3143-3145,共3页Journal of Functional Materials

摘　　要：用非平衡磁控溅射技术制备氧化钛薄膜.研究了基体偏压、沉积温度、基体性质及溅射功率对薄膜晶体结构的影响.结果表明,到达基体的粒子的能量和离子/原子比是影响氧化钛薄膜晶体结构的主要因素;而到达基体的离子/原子比是生成完全金红石结构氧化钛薄膜的决定性因素.

关 键 词：氧化钛薄膜 非平衡磁控溅射 晶体结构 离子/原子到达比 

分 类 号：TN304.21[电子电信—物理电子学]