脉冲激光沉积法制备抗近红外/紫外金属氧化物纳米薄膜  

PLD-Grown anti- UV/IR nanoscale metal oxide thin film from metal

作　　者：朱超[1] 官文超[1] 龙华[1] 曹远美[1] 

机构地区：[1]江汉大学,化学与环境工程学院,湖北,武汉,430056 华中科技大学,化学系,湖北,武汉,430074 华中科技大学,激光技术国家重点实验室,湖北,武汉,430074 华中科技大学,化学系,湖北,武汉,430074

出　　处：《功能材料》2004年第z1期3159-3161,共3页Journal of Functional Materials

基　　金：国家自然科学基金资助项目(20074012),激光国家重点实验室开放项目(0113)

摘　　要：用准分子脉冲激光沉积法(PLD)制备了一系列的锌、铁、钛、银、铝、硅、铜等的氧化物单层和多层薄膜,用AFM研究了薄膜的组成和结构;经紫外和红外光谱发现:抗紫外性能最好的是氧化锌,在190～380nm区间,其吸收率可达90%以上.抗近红外性能最好的是氧化银薄膜,其次依次是氧化铁、氧化锌、氧化钛、氧化铝、氧化铜;多层薄膜中,含有氧化锌层的抗紫外效果最好;含有氧化银层的抗近红外性能效果最好.如氧化铁/氧化锌/氧化银薄膜,在190～380nm区间,其吸收率接近100%,近红外(780～2500nm)吸收率在70%以上,最高可达90%.在可见光区其透过率在80%左右.

关 键 词：脉冲激光沉积法 金属氧化物 纳米薄膜 抗近红外/紫外性能 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]