深亚微米飞行高度测量技术研究  

Study of Deep Sub-micron Flying Height Measuring Technology

作　　者：王亮[1] 赵大鹏[1] 李庆祥[1] 李玉和[1] 

机构地区：[1]清华大学精密测试技术及仪器国家重点实验室,北京100084

出　　处：《仪器仪表学报》2004年第z1期105-106,共2页Chinese Journal of Scientific Instrument

基　　金：高等学校博士点专项科研基金(20020003015)。

摘　　要：介绍了国内外深亚微米飞行高度测量技术,重点研究了干涉测量法、全内反射法、电学测量法的工作原理,分析了各种测量技术的特点,指出了深亚微米飞行高度测量技术亟待解决的关键性问题。It describes techniques for the measurement of deep sub-micron flying height domestically and abroad, focuses on the introduction of operating principles of interferometry, total internal reflection method and electrical method. The characteristics of various measurements and the key technologies are also discussed.

关 键 词：飞行高度 深亚微米 动态测量 

分 类 号：TH7-55[机械工程—仪器科学与技术]