Aldol反应中TBS保护基迁移现象  

作　　者：彭立增[1] 梅天胜[1] 张逢质[1] 李裕林[1] 

机构地区：[1]山东省临沂市临西七路鲁南制药厂,270006 兰州大学化学化工学院,应用有机化学国家重点实验室,兰州,730000 兰州大学化学化工学院,应用有机化学国家重点实验室,兰州,730000 兰州大学化学化工学院,应用有机化学国家重点实验室,兰州,730000

出　　处：《有机化学》2003年第z1期458-,共1页Chinese Journal of Organic Chemistry

基　　金：国家自然科学基金(No.20072012)和高校博士学科专项基金(No.20010730001)资助项目.

摘　　要：　　有机合成中,硅保护基(TBSCl,TESCl,TBDPSCl,TIPSCl,TMSCl等)是一种应用极为普遍的羟基官能团保护基[1].但是,该类保护基经常发生迁移(重排)现象,从而使得反应(或产物)较为复杂.我们在研究过程中首次发现α-硅氧酮2与各类醛1的Aldol反应中硅保护基(TBSCl,TBDPSCl等)也能发生迁移,结果如Scheme 1所示.……

分 类 号：O62[理学—有机化学]