球面旋涂胶层厚度分布模型及其实验研究  

The model of spin-coating photoresist-layer thickness on spherical surface and its experimental verification

作　　者：陈龙江[1] 罗剑波[1] 梁宜勇[1] 张春辉[1] 杨国光[1] 

机构地区：[1]浙江大学光电系现代光学仪器国家重点实验室,浙江杭州310014

出　　处：《光电子．激光》2009年第4期470-474,共5页Journal of Optoelectronics·Laser

基　　金：国家自然科学基金资助项目(60678037);航空科学基金资助项目(20070112001)

摘　　要：创建一种光刻胶离心式旋涂过程中基于流体力学分析的凸面胶厚分布及胶厚均匀性模型,根据曲面流体运动方程以及凸面基片的面型特征得到了凸面恒速甩胶过程中胶层厚度的分布公式,结合凸面流体层流条件和牛顿流体的质量连续方程推导出胶厚分布与胶液类型、初始胶液粘度和密度、转速、基片几何尺寸以及甩胶时间等参数的关系式,利用光谱椭偏仪和台阶仪所测得的结果对该模型进行了验证,两者有较好的吻合,同时建立了胶厚均匀性与甩胶转速、甩胶时间的关系式,该模型可跟踪、监控和改进预光刻过程中凸面胶层的均匀性,以便改善最后的光刻线条质量。A model of photoresist-layer(P-L) thickness distribution during curved-surface photoresist-whirl coating in the former proceedings of curved-surface laser direct writing(LDW) is presented based on the hydrodynamics.According to the equation of motion on curved surface and its characteristics,the attenuating equation of photo resist-layer thickness is got during the constant-rate spin coating of convex surface.And the relations between the photo resist thickness distribution on curved-surface substrate and t...

关 键 词：激光直写光刻(LDW) 曲面甩胶 胶厚分布 胶层均匀性 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]